[发明专利]光刻设备和器件制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和一种制造器件的方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。

在表征了衬底表面的测量阶段中，和在通过图案化的辐射束将期望的图案成像到衬底上的曝光阶段中，衬底被支撑在可相对于投影系统移动的衬底台上。驱动机构被设置用于驱动衬底台的移动。

为了最小化在测量阶段和曝光阶段之间切换时和在将衬底装载到衬底台上和从衬底台上卸载衬底时衬底台所行进的距离，已经发现在现有技术的系统中使用所谓的平面电机驱动衬底台的移动是便利的。通过将线圈连接至衬底台和将永磁体连接至在衬底台下面的主体来实现这些平面电机。所述线圈被驱动使得引起与衬底台的预期的移动相关的所需要的加速和减速。线圈和永磁体还可以配置成使衬底台在永磁体上方漂浮。

平面电机的配置提供在空间上相对地不受约束的移动，衬底台和光刻设备的其它部分之间的任何连接可能在从测量阶段至曝光阶段的衬底台的传输期间保持恒定；例如，衬底台不需要被从一个驱动机构传递至另一驱动机构。

使用这样的平面电机的问题是它们是相对效率差的，从而需要大量的电力以实现所需要的移动。这增加了成本且可能限制这样的系统可以被用于处理更大的衬底(其将需要更大的衬底台且因此需要更大的力)的范围和/或增加了生产量(其将需要更大的加速度和因此需要更大的力)。

发明内容

期望提供一种更加有效地驱动衬底台的移动的方式。

根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，所述光刻设备包括：投影系统，布置成将图案从图案形成装置转移至衬底上；承载装置；和驱动系统，用于在参考正交的轴线X和Y定义的平面中相对于所述投影系统移动所述承载装置。所述驱动系统包括：穿梭件，构造成且布置成平行于所述Y轴线移动；穿梭件连接器，用于连接所述穿梭件至所述承载装置，所述穿梭件连接器被使得允许所述承载装置沿着平行于所述X轴线的方向相对于所述穿梭件移动；和穿梭件驱动器，用于平行于所述Y轴线驱动所述穿梭件移动。所述穿梭件仅沿着平行于所述X轴线的方向定位至所述承载装置的一侧，仅所述穿梭件中的一个连接至所述承载装置；和所述穿梭件驱动器和穿梭件连接器配置成供给通过所述驱动系统施加至所述承载装置的力的所述Y分量的至少10％。

根据本发明的一个可替代的方面，提供了一种光刻设备，所述光刻设备包括：投影系统，布置成将图案从图案形成装置转移到衬底上；承载装置；和驱动系统，用于在参考正交的轴线X和Y定义的平面中相对于所述投影系统移动所述承载装置。所述驱动系统包括：穿梭件，构造成且布置成平行于所述Y轴线移动；穿梭件连接器，用于将所述穿梭件连接至所述承载装置，所述穿梭件连接器被使得允许所述承载装置沿着平行于所述X轴线的方向相对于所述穿梭件移动；和穿梭件连接器驱动器，用于借助于所述穿梭件连接器平行于所述X轴线来驱动所述穿梭件移动。所述穿梭件沿着平行于所述X轴线的方向仅定位至所述承载装置的一侧，所述穿梭件中的仅一个连接至所述承载装置。