[发明专利]一种用于处理直接合成有机氯硅烷中的液体残余物的方法有效
申请号: | 201110430197.9 | 申请日: | 2011-11-22 |
公开(公告)号: | CN102558214A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | G·塔梅;K·毛特纳;W·盖斯勒 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学股份公司 |
主分类号: | C07F7/12 | 分类号: | C07F7/12 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 过晓东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 处理 直接 合成 有机 硅烷 中的 液体 残余物 方法 | ||
1.热裂解直接Müller-Rochow合成中的高沸点残余物的方法,所述方法是在无铝的含有二氧化硅的颗粒的流化床中用氯化氢热裂解直接Müller-Rochow合成中的高沸点残余物以得到硅烷。
2.根据权利要求1所述的方法,其中通式为RcCl6-cSi2的乙硅烷被裂解,其中c=0-6,R=烷基。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述无铝的含有二氧化硅的颗粒选自石英、陶瓷和酸洗的煅烧砂。
4.根据权利要求1-3之一所述的方法,其中所述颗粒的粒径为50μm-1000μm。
5.根据权利要求1-4之一所述的方法,其中所述方法在400-650℃的温度下进行。
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