[发明专利]半导体纳米线-金属薄膜结构的表面等离子体激元激光器有效

专利信息
申请号: 201110430236.5 申请日: 2011-12-21
公开(公告)号: CN102437511A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 张彤;张晓阳;王洋洋 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01S5/34 分类号: H01S5/34;H01S5/18;B82Y20/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 半导体 纳米 金属 薄膜 结构 表面 等离子体 激光器
【权利要求书】:

1. 一种半导体纳米线-金属薄膜结构的表面等离子体激元激光器,其特征在于,该激光器包括半导体纳米线、量子点(2)和金属薄膜(3),所述量子点(2)分布于半导体纳米线表面,所述半导体纳米线与金属薄膜(3)之间:半导体纳米线紧贴在金属薄膜(3)表面上,其间无间隙;或者

半导体纳米线与金属薄膜(3)表面之间有间隙,所述间隙中分布有量子点(2)。

2. 根据权利要求1所述的半导体纳米线-金属薄膜结构的表面等离子体激元激光器,其特征在于,所述半导体纳米线构成的谐振腔的半径在500nm以内,所述金属薄膜(3)的厚度在100nm以上。

3. 根据权利要求1或2所述的半导体纳米线-金属薄膜结构的表面等离子体激元激光器,其特征在于,所述的半导体纳米线为实心半导体纳米线(1),所述量子点(2)分布于实心半导体纳米线(1)的外表面。

4. 根据权利要求1或2所述的半导体纳米线-金属薄膜结构的表面等离子体激元激光器,其特征在于,所述的半导体纳米线为空心半导体纳米线(4),所述量子点(2)分布于空心半导体纳米线(4)的外表面及内壁上。

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