[发明专利]用于衬底圆片的单面湿处理的装置和方法

权利要求书

1.一种用于对衬底圆片(3)进行湿处理的装置(1)，所述装置具有如下部分：

多个池(5)，所述池分别具有用于引入工艺液体的至少一个第一入口(11)和平坦的水平方向的上边缘；以及

运输单元(7)，所述运输单元用于运输所述衬底圆片(3)经过沿所述运输单元(7)的运输方向(A)相继设置的至少两个所述池(5)，其中所述运输单元(7)具有多个位于所述池(5)之外的衬底运送元件(22)，所述衬底运送元件从下面与待运送的衬底(3)接触并运送所述衬底。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，从所述运输单元的运输方向看，至少在每个所述池的前面和后面设置至少一个衬底运送元件。

3.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，至少一部分衬底运送元件是除了用于被运送的衬底的直线运动之外还提供所述衬底的向上和向下运动的类型。

4.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，至少一部分衬底运送元件是运输辊子，所述运输辊子具有至少一个凸轮凸角。

5.如权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，至少一部分衬底运送元件是运输杆，所述运输杆沿椭圆形轨道进行循环运动。

6.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，在至少一个所述池(5)中设置至少一个第二入口，所述第二入口适合于使所述工艺液体垂直向上流动。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述第二入口在高度上位于所述第一入口上方。

8.如权利要求6或7所述的装置，其特征在于，所述装置具有控制单元，所述控制单元能够经由所述至少一个第二入口将工艺液体引入具有所述至少一个第一和第二入口的池中，以使得已经过所述工艺池的所述上边缘流动的工艺流体的液位被抬高到所述第二入口上方。

9.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述第二入口具有水平延伸的管道部，所述管道部至少在所述池的一半宽度上延伸并具有至少一个朝向上的排出口。

10.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置具有至少一个抽气单元，所述抽气单元在与至少一个所述池相邻处具有抽气口，所述抽气口位于所述池的所述上边缘下方。

11.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述池沿所述运输单元(7)的所述运输方向(A)具有这样的长度，即所述长度与待处理的衬底圆片(3)沿所述运动单元(7)的所述运输方向(A)的长度的最多一半一样长，较佳为最多三分之一一样长。

12.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置具有至少一个收集槽，所述收集槽关于所述池(5)如此设置，以使得从所述池(5)中溢出的工艺液体被收集起来。

13.一种用于对衬底圆片(3)进行湿处理的方法(1)，在所述方法中，衬底圆片经由运输单元(7)沿运输方向(A)运输经过沿运输方向(A)相继设置的至少两个池(5)，

其中在运输过程中，所述衬底圆片置于至少两个衬底运送元件(22)上面，所述衬底运送元件设置在所述池(5)外面并从下面与所述衬底圆片(3)接触，其中工艺液体分别如此引入所述池(5)中，以使得所述工艺液体至少局部地越过所述池的上边缘，

并且其中所述衬底圆片(3)被如此运输，以使所述工艺液体与所述衬底圆片(3)的底面接触。

14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，在运输过程中，所述衬底圆片(3)的沿所述运输方向(A)的前边缘在其与所述工艺液体的至少局部越过所述池的上边缘的那部分接触之前被抬高，然后，所述衬底圆片从上面被降低到所述工艺液体的所述至少局部越过所述池的所述上边缘的那部分上。

15.如权利要求13或14所述的方法，其特征在于，所述工艺液体被引入所述池中，从而提供所述工艺液体的局部限制的、垂直向上的流动，以使得在这种流动区域内的所述工艺液体局部越过它通常的液位。

16.如权利要求13至15中任一项所述的方法，其特征在于，所述工艺液体被引入所述池中，以使得所述工艺液体经所述池的上边缘溢出。