[发明专利]一种选育聚合水稻纹枯病抗性育种材料的方法

说明书

技术领域

本发明属于农作物新品种新材料选育技术领域，具体涉及一种抗水稻纹枯病育种材料的选育方法。

背景技术

由立枯丝核菌(Rhizoctonia solani kuhn)引起的纹枯病是水稻重要的真菌病害之一，产量损失为10％-30％，严重时可达50％以上。大量使用化学药剂防治病害不仅容易造成环境污染，而且由于病原菌的抗药性增强导致防治费用逐年上升。利用生物拮抗菌防治水稻纹枯病能够弥补化学药剂的不足，但防治时期等问题还有待于进一步研究，因此培育和种植抗病品种防治水稻纹枯病最经济有效的方法之一。

20世纪70年代以来，国内外研究者对数千份水稻种质资源进行纹枯病抗性评价，发现水稻品种对纹枯病的抗性存在明显差异，但未发现免疫品种(陈宗祥等，2000，对水稻纹枯病抗源的初步研究，中国水稻科学，14(1)：15～18)。已鉴定出的水稻抗源对纹枯病菌大多呈部分抗性，表现为数量性状的遗传方式，受多个数量性状位点。传统育种中选择是根据植株的表型性状进行的，对于单基因遗传的选择非常有效，但面对复杂的数量性状时这种选择往往收效甚微。因此，与水稻白叶枯病等病原菌与寄主抗病基因存在典型专化性互作的危害严重的水稻病害相比，迄今，水稻对纹枯病的抗性改良一直未取得有效的进展。

随着分子生物学技术的发展，国内外学者相继开展了水稻抗纹枯病数量位点(Quantitative trait loci，QTL)定位研究，目前，在水稻12条染色体上均定位到控制纹枯病的QTL(Li ZK等，1995，Characterization of quantitative trait loci(QTLs)in cultivated rice contributing to field resistance to sheath blight(Rhizoctonia solani)，Theor Appl Genet，91：374～381；韩月澎等，2202，杂交水稻亲本明恢63对纹枯病水平抗性的QTL定位，遗传学报，29(7)：565～570)。但是，进一步表明水稻抗纹枯病单个位点提高抗性的效应较小，并且具有显著的背景依赖性，即使在相同的环境条件下，在一个水稻遗传背景中表达的多数抗纹枯病QTL在另一遗传背景中往往不表达(谢学文等，2008，水稻抗纹枯病QTL表达的遗传背景及环境效应，作物学报，34(11)：1885～1893)，因此，虽然研究者从不同抗病品种中鉴定出了一些QTL，但是由于以往大多数基因/QTL定位通常与遗传育种的实践完全脱节，目前分子标记辅助选择技术难以有效地改良水稻品种对纹枯病的抗性；另外，通过不同遗传背景的抗性株系进行杂交的常规策略，也难以获得抗病性进一步提高的抗纹枯病聚合系。

近年来，通过对回交群体进行目标性状筛选发现，供体亲本所携带的各种有利基因大多是以隐蔽的形式存在的，回交育种技术是发掘利用水稻原始基因库中的隐蔽基因来改良抗旱性、耐冷性等复杂性状的有效方法(Lafitte H R等，2006，Improvement of rice drought tolerance through backcross breeding：evaluation of donors and results from drought nurseries，Field Crop Res，97(1)：77-86)。对回交后代群体目标性状的筛选不必拘泥于供体亲本本身在性状上的表现，回交群体通过严格的胁迫和表型选择均能得到目标性状改良的株系。

发明内容

本发明的目的是提供一种通过构建和聚合遗传背景相近的抗病选择导入系来提高水稻纹枯病抗性的方法。

本发明的目的通过以下技术方案实现：

(1)BC₂F₂导入系群体的构建和抗纹枯病导入系筛选。