[发明专利]光学钝化薄膜及其制造方法以及太阳能电池

权利要求书

1.一种光学钝化薄膜，其包括Ti_1-xAl_xO_y:Z，其中Z表示卤素元素，x为0.05～0.95，y大于0。

2.如权利要求1所述的光学钝化薄膜，其中Z表示氟、氯、溴或碘。

3.如权利要求1所述的光学钝化薄膜，其中所述卤素元素在该光学钝化薄膜中的量至少为10¹⁸个原子/cm³。

4.如权利要求3所述的光学钝化薄膜，其中所述卤素元素在该光学钝化薄膜中的量为10¹⁸～10²¹个原子/cm³。

5.一种光学钝化薄膜的制造方法，包括：

制备喷涂溶液，其中该喷涂溶液包括氧化铝前驱物、氧化钛前驱物、卤素溶液以及溶剂；

将基板放置于加热器上，以对该基板进行加热步骤；

进行喷涂程序，以将该喷涂溶液喷涂于该基板上，以形成光学钝化薄膜，其中所述光学钝化薄膜包括Ti_1-xAl_xO_y:Z，Z表示卤素元素，x为0.05～0.95，y大于0。

6.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中该氧化铝前驱物包括铝醇盐、氯化铝、或硝酸铝。

7.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中该氧化钛前驱物包括钛醇盐或四乙醇钛。

8.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中该卤素溶液包含氢氟酸、氢氯酸、氢溴酸、或氢碘酸。

9.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中该溶剂包括水以及甲醇、乙醇或其组合。

10.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中

制备该喷涂溶液的步骤包括同时将该氧化铝前驱物、该氧化钛前驱物、该卤素溶液与该溶剂混合以形成混合溶液；以及

该喷涂程序包括利用喷嘴将该混合溶液喷涂于该基板上。

11.如权利要求10所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中该氧化铝前驱物于该混合溶液中的浓度为0.01M～1M，所述该氧化钛前驱物于该混合溶液中的浓度为0.01M～1M，且该卤素溶液于该混合溶液中的浓度为0.01M～1M。

12.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中

制备该喷涂溶液的步骤包括分别将该氧化铝前驱物以及该氧化钛前驱物与该溶剂混合，以制备成氧化铝溶液以及氧化钛溶液，其中该氧化铝溶液、该氧化钛溶液或是两者含有该卤素溶液；以及

该喷涂程序包括利用多个喷嘴以分别将所述氧化铝溶液以及所述氧化钛溶液各自喷涂于该基板上。

13.如权利要求12所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中所述氧化铝溶液的喷涂量与所述氧化钛溶液的喷涂量的比例为10∶1～1∶10。

14.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中将所述喷涂程序包括进行超声波雾化喷涂程序。

15.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中该加热器的温度为摄氏300～600度。

16.如权利要求5所述的光学钝化薄膜的制造方法，其中于形成该光学钝化薄膜之后，还包括进行退火步骤。

17.一种太阳能电池，包括：

半导体基材；

光学钝化薄膜，位于该半导体基材上，其中该光学钝化薄膜，其包括Ti_1-xAl_xO_y:Z，其中Z表示卤素元素，x介于0.05～0.95，y大于0；以及

第一电极以及第二电极，分别位于该半导体基材的相对向的两表面上。

18.如权利要求17项所述的太阳能电池，其中Z表示氟、氯、溴或碘。

19.如权利要求17项所述的太阳能电池，其中所述卤素元素在该光学钝化薄膜中的量至少为10¹⁸个原子/cm³。

20.如权利要求19项所述的太阳能电池，其中所述卤素元素在该光学钝化薄膜中的量为10¹⁸～10²¹个原子/cm³。