[发明专利]胶印版材表面检测的处理方法及系统无效
申请号: | 201110432994.0 | 申请日: | 2011-12-21 |
公开(公告)号: | CN103175839A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 王新新;徐江伟 | 申请(专利权)人: | 北京兆维电子(集团)有限责任公司;北京兆维科技开发有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 胶印 表面 检测 处理 方法 系统 | ||
1.一种胶印版材表面检测的处理方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
S1:对胶印版材表面的原始图像进行边界定位,以获得所述原始图像中的有效区域,并将所述有效区域作为待测图像;
S2:对所述待测图像进行预处理;
S3:对预处理后的待测图像进行瑕疵识别,以获得瑕疵的位置;
S4:根据瑕疵的位置,获得瑕疵的特性参数。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤S1中胶印版材表面的原始图像通过一个线阵CCD相机采集获得。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤S1中胶印版材表明的原始图像通过至少两个并行拼接的线阵CCD相机采集获得;
步骤S1和步骤S2之间还包括步骤:
S21:对至少两个并行拼接的线阵CCD相机分别获得的待测图像,并将获得的每两个待测图像之间的重合部分只归于一个待测图像进行处理。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤S2中,所述预处理采用:图像增强、高斯去噪、双阈值算法、以及形态学中的至少一种。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤S2中采用的双阈值算法为自适应阈值的双阈值算法。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,步骤S2中进行预处理时,将预处理后的待测图像分为至少两个检测区域,对每个检测区域采用不同的双阈值算法的参数。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤S4中所述瑕疵的特性参数包括:所述瑕疵的面积、长宽、灰度均值、外接矩形长宽、瑕疵坐标、以及瑕疵类型中的至少一个。
8.一种胶印版材表面检测的处理系统,其特征在于,所述系统包括:
边界定位模块,用于对胶印版材表面的原始图像进行边界定位,以获得所述原始图像中的有效区域,并将所述有效区域作为待测图像;
预处理模块,用于对所述待测图像进行预处理;
瑕疵识别模块,用于对预处理后的待测图像进行瑕疵识别,以获得瑕疵的位置;
参数获得模块,用于根据瑕疵的位置,获得瑕疵的特性参数。
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