[发明专利]一种三明治式透明导电薄膜及制备方法有效
申请号: | 201110435160.5 | 申请日: | 2011-12-22 |
公开(公告)号: | CN103171187A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 姜来新;毛启明;尹桂林;李文英;何丹农 | 申请(专利权)人: | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
主分类号: | B32B15/04 | 分类号: | B32B15/04;B32B15/20;B32B9/04;C23C14/35;C23C14/08;C23C16/40;C23C16/44;C23C14/18;C23C28/00 |
代理公司: | 上海东方易知识产权事务所 31121 | 代理人: | 唐莉莎 |
地址: | 200241 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 三明治 透明 导电 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种三明治式结构的透明导电薄膜,其特征在于,所述透明导电薄膜的模系氧化锌/铜/氧化锌。
2.根据权利要求1所述一种三明治式结构的透明导电薄膜,其特征在于,所述氧化锌薄膜的厚度为20-400nm。
3.根据权利要求1所述一种三明治式结构的透明导电薄膜,其特征在于,所述铜膜的厚度为2-8nm。
4.根据权利要求1或2或3所述一种三明治式结构的透明导电薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
步骤1、原子层沉积方法制备底层氧化锌薄膜:用真空泵将反应腔抽到20hPa以下的低真空并加热到反应温度,用纯度为5N的高纯氮清洗反应腔,将清洗好的衬底放入反应腔,待达到反应温度,前驱体二乙基锌随高纯氮气以脉冲形式通入反应室,通过化学吸附到衬底上,再通入高纯氮气脉冲清洗衬底上以物理方式吸附的、反应腔中过量的锌前驱体,通入水蒸汽脉冲,与之前化学吸附的二乙基锌发生表面化学反应,用高纯氮气脉冲清洗掉多余的水蒸汽,上述过程完成一个循环的氧化锌薄膜的沉积;根据原子层沉积的循环数量能精确控制氧化锌薄膜的厚度;
或采用磁控溅射方法制备底层氧化锌薄膜:在5×10-4 Pa以上的高背地真空度下,以氧化锌靶射频溅射氧化锌薄膜;
步骤2、磁控溅射方法制备中间层铜薄膜:将步骤1沉积有氧化锌薄膜衬底放入溅射反应腔,抽到5×10-4 Pa以上的真空度,以纯度为99.99%的铜作为靶材直流溅射铜薄膜;
步骤3、原子层沉积方法或磁控溅射方法制备上层氧化锌薄膜。
5.根据权利要求4所述一种三明治式结构的透明导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述氧化锌薄膜采用原子层沉积方法制备,氧化锌的反应温度为100~300℃,所用前躯体为二乙基锌和水,二乙基锌脉冲时间为0.1-0.3秒,清洗二乙基锌的脉冲时间至少3秒,水蒸气脉冲时间为0.2-0.4秒,清洗水蒸汽的脉冲时间至少4秒。
6.根据权利要求4所述一种三明治式结构的透明导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述磁控射频溅射制备氧化锌薄膜,溅射气压为0.5-0.7Pa,射频溅射功率为50-80W;所述磁控直流溅射制备铜膜,溅射气压为0.6-0.8Pa,溅射功率为70-90W。
7.根据权利要求4所述一种三明治式结构的透明导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述铜膜采用磁控溅射方法制备,但不限于此种方法,其他的物理气相沉积、化学气相沉积以及原子层沉积都可以用来制备铜膜。
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