[发明专利]金属离子修饰介孔氧化硅及其制备方法

权利要求书

1.一种金属离子修饰介孔氧化硅，其特征在于介孔氧化硅采用金属离子修饰；其中金属离子是钙离子、镁离子、锌离子、锰离子或锶离子；金属离子与硅的摩尔比为0.01～0.15。

2.一种制备如权利要求1所述的金属离子修饰介孔氧化硅的方法，其具体步骤如下：

A)配制金属盐溶液；

B)将介孔氧化硅材料分散在金属盐溶液中，分散后的介孔氧化硅-金属盐溶液于10℃～40℃下蒸发溶剂后得白色固体，将白色固体置于10℃～80℃下干燥至恒重获得介孔氧化硅-金属盐复合粉末；

C)将介孔氧化硅-金属盐复合粉末以0.5℃/min～10℃/min的升温速率加热到500℃～700℃，保温热处理1h～5h，然后随炉冷却后得金属离子修饰介孔氧化硅。

3.按权利要求2所述的方法，其特征在于所述的金属盐为可溶性金属硝酸盐或金属乙酸盐，其中金属为钙、镁、锌、锰或锶；所述的金属盐溶液的浓度为10g/L～300g/L，溶剂是乙醇、甲醇或水；所述的介孔氧化硅与金属盐溶液的固液比例为10g/L～100g/L。