[发明专利]制备液晶聚酯膜的方法

说明书

技术领域

本发明涉及制备液晶聚酯膜的方法。

背景技术

由于液晶聚酯具有高耐热性和低介电损耗（dielectric loss），所以人们已研究了使用液晶聚酯膜作为印刷电路板的绝缘层。还已研究了一种如下方法作为制备液晶聚酯膜的方法：其中，流铸（flow cast）含液晶聚酯和溶剂的液态组合物，然后除去溶剂并热处理所得到的膜。例如，JP-A-2004-250688描述了热处理在等于或高于液晶聚酯的玻璃化转变温度和等于或低于液晶转变温度的温度进行。具体地，其公开了通过使用液晶转变温度为320℃的液晶聚酯获得膜，然后在290℃或320℃热处理所得的膜。JP-A-2004-315678描述了热处理在200～400℃进行，并具体地公开了通过使用液晶转变温度为200℃的液晶聚酯获得膜，然后在250℃热处理所得的膜。JP-A-2005-47043描述了热处理在200～400℃进行，并具体地公开了通过使用液晶转变温度为350℃的液晶聚酯获得膜，然后在320℃热处理所得的膜。

发明内容

通过JP-A-2004-250688、JP-A-2004-315678和JP-A-2005-47043中公开的方法所获得的液晶聚酯膜在厚度方向上的热导率不一定令人满意。因此，本发明的一个目的是提供能生产在厚度方向上具有优异热导率（thermal conductivity）的液晶聚酯膜的方法。

为实现所述目的，本发明提供制备液晶聚酯膜的方法，该方法包含流延（casting）含液晶聚酯和溶剂的液态组合物；除去所述溶剂；以1.0℃/min或更高的速率，将温度从等于或低于150℃的温度升到所述液晶聚酯的液晶转变温度与该液晶转变温度之上80℃之间的温度；并在所述液晶聚酯的液晶转变温度与该液晶转变温度之上80℃之间的温度热处理所得到的膜。

按照本发明，可获得在厚度方向上具有优异热导率的液晶聚酯膜。

具体实施方式

所述液晶聚酯是在熔融态呈现介晶性并优选在等于或低于450℃的温度熔化的液晶聚酯。所述液晶聚酯可以是液晶聚酯酰胺、液晶聚酯醚、液晶聚酯碳酸酯或液晶聚酯酰亚胺。所述液晶聚酯优选是通过仅使用芳族化合物作为原料单体得到的全芳族液晶聚酯。

所述液晶聚酯的典型实例包括通过聚合（缩聚）芳族羟基羧酸、芳族二羧酸与至少一种选自芳族二醇、芳族羟基胺和芳族二胺的化合物得到的那些；通过聚合多种芳族羟基羧酸得到的那些；通过聚合芳族二羧酸与至少一种选自芳族二醇、芳族羟基胺和芳族二胺的化合物得到的那些；以及通过聚合聚酯例如聚对苯二甲酸乙二醇酯与芳族羟基羧酸得到的那些。在这里，可以使用它们的可聚合衍生物各自独立地代替部分或全部所述芳族羟基羧酸、芳族二羧酸、芳族二醇、芳族羟基胺和芳族二胺。

具有羧基的化合物例如芳族羟基羧酸或芳族二羧酸的可聚合衍生物的实例包括通过将羧基转化成烷氧基羰基或芳氧基羰基所得到的那些(酯)；通过将羧基转化成卤代甲酰基（haloformyl）所得到的那些(酰卤（acid halide）)；以及通过将羧基转化成酰氧基羰基所得到的那些(酸酐)。具有羟基的化合物例如芳族羟基羧酸、芳族二醇或芳族羟基胺的可聚合衍生物的实例包括通过酰化作用通过将羟基转化成酰氧基所获得的那些(酰化产物)。具有氨基的化合物例如芳族羟基胺或芳族二胺的可聚合衍生物的实例包括通过酰化作用通过将氨基转化成酰氨基所获得的那些(酰化产物)。

所述液晶聚酯优选包括由下式(1)所代表的重复单元(下文有时可称之为“重复单元(1)”)，更优选包括重复单元(1)、由下式(2)所代表的重复单元(下文有时可称之为“重复单元(2)”)和由下式(3)所代表的重复单元(下文有时可称之为“重复单元(3)”)：

(1) -O-Ar¹-CO-,

(2) -CO-Ar²-CO-,和

(3) -X-Ar³-Y-

其中，Ar¹代表亚苯基、亚萘基或亚联苯基；Ar²和Ar³各自独立地代表亚苯基、亚萘基、亚联苯基（biphenylylene group）或由下式(4)所代表的基团；X和Y各自独立地代表氧原子或亚氨基；和存在于由Ar¹、Ar²或Ar³所代表的基团中的氢原子可各自独立地被卤原子、烷基或芳基取代，以及