[发明专利]处理单元和使用处理单元的图像形成装置有效
申请号: | 201110440852.9 | 申请日: | 2011-12-23 |
公开(公告)号: | CN102540842A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 桥本淳一;清水贵司 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G21/18 | 分类号: | G03G21/18;G03G15/08;G03G15/00 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;崔巍 |
地址: | 日本国爱知县名*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 单元 使用 图像 形成 装置 | ||
1.一种处理单元,其特征在于,包括:
图像承载构件;
第一框架,所述第一框架支撑所述图像承载构件;
显影单元,所述显影单元包括显影辊和支撑所述显影辊的第二框架;
按压组件,所述按压组件产生作用在所述显影单元上的第一按压力,以使得所述显影辊与所述图像承载构件压力接触;和
按压力调节组件,所述按压力调节组件接触所述第一框架和所述显影单元中的一个,并产生作用在所述显影单元上抵抗所述第一按压力的第二按压力,所述第二按压力小于所述第一按压力。
2.如权利要求1所述的处理单元,其特征在于,所述按压力调节组件接触由所述第一框架支撑的所述图像承载构件,并产生作用在所述显影单元上抵抗所述第一按压力的所述第二按压力。
3.如权利要求1所述的处理单元,其特征在于,按压力调节组件包括:
接触构件,所述接触构件接触所述图像承载构件并且被支撑到所述第二框架,所述接触构件能够在所述显影辊按压所述图像承载构件的第一方向上移动;和
推动构件,所述推动构件被构造成抵抗所述第一按压力推动所述显影辊。
4.如权利要求3所述的处理单元,其特征在于,所述推动构件被布置在所述接触构件和所述显影辊之间。
5.如权利要求3所述的处理单元,其特征在于,所述推动构件被布置在所述接触构件和所述第二框架之间。
6.如权利要求5所述的处理单元,其特征在于,所述第二框架包括可旋转地支撑所述显影辊的支承构件,所述推动构件被布置在所述接触构件和所述支承构件之间。
7.如权利要求3至5中任一项所述的处理单元,其特征在于,在所述第二框架被组装到所述第一框架之前,所述接触构件从所述显影辊径向向外突出。
8.如权利要求3所述的处理单元,其特征在于,所述接触构件具有在所述第一方向上延伸的凹槽和通孔中的一个,所述显影辊具有与所述通孔和所述凹槽中的一个接合的旋转轴。
9.根据权利要求3所述的处理单元,其特征在于,所述第二框架枢轴转动地支撑所述接触构件。
10.如权利要求2或3所述的处理单元,其特征在于,所述显影辊设置有具有一个端部和另一端部的旋转轴;
其中,所述按压力调节组件包括两个按压力调节组件,所述两个按压力调节组件中的一个被布置在所述一个端部,所述两个按压力调节组件中的另一个被布置在所述另一端部。
11.如权利要求2或3所述的处理单元,其特征在于,所述显影辊设置有具有一个端部和另一端部的旋转轴;
其中,所述按压组件包括两个按压组件,所述两个按压组件中的一个被布置在所述一个端部上,所述两个按压组件中的另一个被布置在所述另一端部上。
12.一种显影单元,其特征在于,包括:
显影辊,所述显影辊被构造成接触图像承载构件并为所述图像承载构件提供显影剂;
框架,所述框架可旋转地支撑所述显影辊;
按压构件,所述按压构件被第一按压力朝向所述图像承载构件按压;和
按压力调节组件,所述按压力调节组件接触所述图像承载构件,并产生抵抗所述第一按压力的第二按压力,所述第二按压力小于所述第一按压力。
13.如权利要求12所述的显影单元,其特征在于,所述按压力调节组件包括:
接触构件,所述接触构件接触所述图像承载构件并且被支撑到所述框架,所述接触构件能够在所述显影辊按压所述图像承载构件的第一方向上移动;和
推动构件,所述推动构件被构造成抵抗所述第一按压力推动所述显影辊。
14.如权利要求13所述的显影单元,其特征在于,所述推动构件被布置在所述接触构件和所述显影辊之间。
15.如权利要求13所述的显影单元,其特征在于,所述推动构件被布置在所述接触构件和所述框架之间。
16.如权利要求15所述的显影单元,其特征在于,所述框架包括可旋转地支撑所述显影辊的支承构件,所述推动构件被布置在所述接触构件和所述支承构件之间。
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