[发明专利]眼测定装置

说明书

相关申请的交叉参考

本申请要求2010年12月27日向日本专利局提交的日本专利申请第2010-291187号的优先权，因此将所述日本专利申请的全部内容以引用的方式并入本文。

技术领域

本发明涉及测定受检眼的眼测定装置。

背景技术

公知的有通过向受检眼的眼底照射测定光束并接受测定光束的反射光，以客观的方式测定受检眼的眼屈光力的装置(例如自动验光仪)。

此外，在日本专利公开公报特开平7-16205号中公开了一种眼屈光力测定装置，该装置具备用于眩光测试的光学系统。

对于眩光测试的必要性，检查人员根据经验进行判断。可是经验不足的检查人员不能容易地判断进行眩光测试的必要性。此外，在总是进行眩光测试的情况下，包括客观检查和眩光测试的一系列的检查所需要的时间变长。因此，检查人员和受检者受到的负担变大。

发明内容

本发明的目的之一是提供一种可以顺畅地进行眩光测试的眼测定装置。

本发明的眼测定装置可以具有以下所述的结构。

本发明提供一种眼测定装置，其包括：主观测定用光学系统，包括用于向受检眼呈现的视标和向所述受检眼照射眩光的眩光光源，用于以主观的方式测定所述受检眼；以及控制部，判断在所述受检眼的眼介质中有无混浊，在判断为有混浊的情况下，显示需要进行眩光测试，该眩光测试是在向所述受检眼照射眩光的状态下的主观测定。

本发明还提供一种眼测定装置，其包括：主观测定用光学系统，包括用于向受检眼呈现的视标和向所述受检眼照射眩光的眩光光源，用于以主观的方式测定所述受检眼；以及控制部，判断在所述受检眼的眼介质中有无混浊，在判断为有混浊的情况下，控制所述主观测定用光学系统来执行眩光测试，该眩光测试是在向所述受检眼照射眩光的状态下的主观测定。

所述的眼测定装置具有很高的方便性。

附图说明

图1是本发明一个实施方式的眼测定装置的光学系统和控制系统的简要结构图。

图2是表示由受检者同时用视觉辨认的眩光测试用的可见光和视标的图。

图3是表示通过摄像元件拍摄到的环形图像的图。

图4A、图4B和图4C是对由摄像元件拍摄到的环形图像和所述的环形图像的亮度分布进行说明的图。

具体实施方式

在下面的详细说明中，出于说明的目的，为了用于对所公开的实施方式的彻底的理解，提出了许多具体的细节。然而，显然可以在没有这些具体细节的前提下实施一个或更多的实施方式。在其它的情况下，为了简化制图，示意性地示出了公知的结构和装置。

下面参照附图对本实施方式的眼测定装置(本装置)进行说明。图1是本装置的光学系统和控制系统的简要结构图。此外，下面的光学系统装在图中没有表示的箱体内。此外，可以通过公知的对准(alignment)用移动机构，使所述箱体相对于受检眼E三维地移动。此外，所述箱体也可以是手提式(手持式)的。

测定光学系统10(客观测定用光学系统、主观测定用光学系统)包括投影光学系统10a和受光光学系统10b。投影光学系统(照射光学系统)10a把点状的测定视标通过眼E的瞳孔中心部投影到眼E的眼底Ef。受光光学系统10b接收从眼底Ef反射并通过了瞳孔周边部的环形的眼底反射光。由此，二维摄像元件拍摄环形的眼底反射图像。

投影光学系统10a包括测定光源11、中继透镜12、孔镜13和物镜14。所述的测定光源11～物镜14配置在测定光学系统10的光轴L1上。光源11位于与正视眼的眼底Ef在光学上共轭的位置。此外，孔镜13的开口位于与眼E的瞳孔在光学上共轭的位置。

受光光学系统10b与投影光学系统10a共用投影光学系统10a的物镜14和孔镜13。此外，受光光学系统10b包括中继透镜16和全反射镜17，该中继透镜16和全反射镜17配置在孔镜13的反射方向的光轴L1上。此外，受光光学系统10b包括受光光圈18、准直透镜19、环形透镜20和由面阵CCD等构成的二维摄像元件(受光元件)22。所述的受光光圈18、准直透镜19、环形透镜20和摄像元件22配置在全反射镜17的反射方向的光轴L1上。受光光圈18和摄像元件22与眼底Ef的位置关系为光学上共轭的关系。环形透镜20具有：透镜部，形成为环形；以及遮光部，位于透镜部以外的区域，涂布有遮光用涂层。环形透镜20与眼E的瞳孔的位置关系为光学上共轭的关系。来自摄像元件22的输出被输入到计算控制部70(以下称为控制部70)。