[发明专利]一种芯片切割方法有效

专利信息
申请号: 201110441963.1 申请日: 2011-12-26
公开(公告)号: CN102496602A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 刘剑 申请(专利权)人: 成都先进功率半导体股份有限公司
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78;B28D5/00
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 曹晋玲;熊晓果
地址: 611731 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 切割 方法
【权利要求书】:

1.一种芯片切割方法,其特征在于,包括交替进行若干次横向切割和若干次纵向切割,具体步骤:

(一)首次横向切割,间隔N列晶粒切割,所述N为整数且N≥2;首次纵向切割,间隔M列晶粒切割,所述M为整数且M≥1;

(二)后续横向切割和/或后续纵向切割,间隔一列或一列以上晶粒对未切割的晶粒切割,直至将每个晶粒分离。

2.根据权利要求1所述的一种芯片切割方法,其特征在于,步骤(一)所述2≤N≤1/2晶粒横向总列数。

3.根据权利要求1所述的一种芯片切割方法,其特征在于,步骤(一)所述2≤M≤1/2晶粒纵向总列数。

4.根据权利要求3所述的一种芯片切割方法,其特征在于,步骤(一)所述N与步骤(一)所述M相等。

5.根据权利要求4所述的一种芯片切割方法,其特征在于,步骤(一)所述N=2或3或4或5,步骤(一)所述M=2或3或4或5。

6.根据权利要求1所述的一种芯片切割方法,其特征在于,所述横向切割为两次横向切割,所述纵向切割为两次纵向切割;步骤(一)所述N=2,步骤(一)所述M=2;步骤(二)所述后续横向切割为间隔两列晶粒对未切割的晶粒切割,步骤(二)所述后续纵向切割为间隔两列晶粒对未切割的晶粒切割。

7.根据权利要求1所述的一种芯片切割方法,其特征在于,所述横向切割为两次横向切割,所述纵向切割为一次纵向切割;步骤(一)所述N=2,步骤(一)所述M=1;步骤(二)所述后续横向切割为间隔两列晶粒对未切割的晶粒切割。

8.根据权利要求1所述的一种芯片切割方法,其特征在于,所述横向切割为两次横向切割,所述纵向切割为两次纵向切割;步骤(一)所述N=3,步骤(一)所述M=3;步骤(二)所述后续横向切割为间隔一列或两列晶粒对未切割的晶粒切割,步骤(二)所述后续纵向切割为间隔一列或两列晶粒对未切割的晶粒切割。

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