[发明专利]高集成高可靠工作温度可控厚膜混合集成电路的集成方法无效
申请号: | 201110446104.1 | 申请日: | 2011-12-28 |
公开(公告)号: | CN102446804A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 杨成刚;苏贵东 | 申请(专利权)人: | 贵州振华风光半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/70 | 分类号: | H01L21/70 |
代理公司: | 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 | 代理人: | 刘安宁 |
地址: | 550018 贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集成 可靠 工作温度 可控 混合 集成电路 方法 | ||
1. 一种高集成高可靠工作温度可控厚膜混合集成电路,其特征在于该电路由器件管壳基座(1)、管脚(9)、氮化铝陶瓷基片(2)、半导体芯片(3)、热敏元件(4)、厚膜阻带(5)、厚膜导带/键合区(6)、N型半导体(7)、P型半导体(8)、微型热电致冷器(11)和绝缘介质(10)组成,陶瓷基片(2)正面是微型热电致冷器(11)与常规混合集成电路的一体化集成,包括厚膜阻带(5)、厚膜导带/键合区(6)、半导体芯片(3)、N型半导体(7)、P型半导体(8)和微型元器件;N型半导体(7)、P型半导体(8)的两端引出有连接线,之间填充有绝缘介质(10);陶瓷基片(2)背面通过金属膜置于器件管壳基座(1)之上,管脚(9)装在器件管壳基座(1)的两端。
2. 如权利要求1所述混合集成电路的集成方法,其特征包括:
(1) 取第一块氮化铝陶瓷基片(Al3N4),在正反面分别溅射金属薄膜,对正面金属薄膜进行刻蚀;
(2) 取第二块氮化铝陶瓷基片(Al3N4),在其正面分别印刷和烧结电阻浆料、电阻浆料、玻璃釉浆料,形成厚膜阻带、厚膜导带和玻璃釉绝缘保护层;
(3) 接着在其背面溅射金属膜,并进行刻蚀;
(4) 在刻蚀后的金属膜上溅射N型半导体材料,进行化学机械整平;
(5) 接着刻蚀出N型半导体;
(6) 之后溅射填充绝缘介质,并进行化学机械整平;
(7) 再溅射填充P型半导体材料并进行化学机械整平;
(8) 之后溅射金属薄膜,接着进行刻蚀;
(9) 再次溅射填充绝缘介质并进行化学机械整平和刻蚀;
(10) 再溅射金属膜并刻蚀;
(11) 与第一块基片对准焊接,形成带温控集成的厚膜基片;
(12) 将厚膜基片背面焊接在器件管壳基座上;
(13) 最后在厚膜基片的正面集成其他芯片或元件,进行键合、测试、封帽,即得到高集成高可靠工作温度可控厚膜混合集成电路。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造