[发明专利]一种硼铝硅酸盐玻璃基板及其制备方法

权利要求书

1.一种硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，按质量分数计，包括以下的组分：

57％～65％的氧化硅、13.8％～18.5％的氧化铝、8％～15％的氧化硼、0～5％的氧化镁、5％～10.5％的氧化钙、0～6.5％的氧化锶、0～5％的氧化钡，0～1.5％的氧化锌、0～1.0％的氧化锡和0～0.5％的氧化铈，杂质含量小于0.2％。

2.如权利要求1所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，按质量分数计，包括以下的组分：

58％～63％的氧化硅、15％～16.5％的氧化铝、8.8％～11％的氧化硼、1～3％的氧化镁、5.85％～7％的氧化钙、1～5％的氧化锶、1～5％的氧化钡，0.2～1.5％的氧化锌、0.2～0.6％的氧化锡和0.20～0.5％的氧化铈。

3.如权利要求1所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，按质量分数计，包括以下的组分：

59.5％～61.5％的氧化硅、15.5％～16.5％的氧化铝、9.62％～9.95％的氧化硼、0.5～1.55％的氧化镁、5.85％～6.95％的氧化钙、2.55～4.25％的氧化锶、2.45～3％的氧化钡，0.35～1.15％的氧化锌、0.10～0.25％的氧化锡和0.20～0.40％的氧化铈。

4.如权利要求1所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，还包质量分数0～0.08％的氧化锆，以及质量分数小于0.01％的二氧化钛。

5.如权利要求1所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，以质量分数计，包含0.02～0.03％的氧化锆和0.002％～0.01％的二氧化钛。

6.如权利要求1～5中任何一项所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，氧化硅与氧化铝的含量之和超过75％，氧化铝与氧化硼的比例介于1.2～2.2之间，氧化镁和氧化钙含量之和介于5％～10％之间。

7.如权利要求1～5中任何一项所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，氧化锶和氧化钡含量之和介于0～8％之间，氧化锡和氧化铈含量之和介于0～1.2％之间。

8.如权利要求7所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，氧化锡和氧化铈的总和介于0.2～1.0％之间，氧化锡与氧化铈的比例介于0.5～5.0之间。

9.如权利要求1所述的硼铝硅酸盐玻璃基板，其特征在于，所述的杂质中Fe₂O₃＜0.05％，SO₃＜0.03％，Cl＜0.03％；碱金属氧化物含量的质量分数低于0.1％。

10.一种硼铝硅酸盐玻璃基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)按照以下质量比称取各原料组分57％～65％的氧化硅、13.8％～18.5％的氧化铝、8％～15％的氧化硼、0～5％的氧化镁、5％～10.5％的氧化钙、0～6.5％的氧化锶、0～5％的氧化钡，0～1.5％的氧化锌、0～1.0％的氧化锡和0～0.5％的氧化铈，各原料组分之和100％；

2)将各原料组分充分混合后，在1550℃～1650℃的温度下熔化成玻璃液，再通过溢流下拉法成型为玻璃基板。