[发明专利]硅器件以及硅器件的制造方法

权利要求书

1.一种硅器件，其特征在于，

所述硅器件为在俯视观察时具有多边形的外形形状的平板状，

所述多边形的角部的至少一个形成为包括：构成所述多边形的多个边中的、位于相互邻接的位置的两个边；以及与两个所述边分别相接并连接所述边的角部曲线部。

2.一种硅器件，其特征在于，

所述硅器件为在俯视观察时具有多边形的外形形状的平板状，

所述多边形的角部的至少一个形成为包括：构成所述多边形的多个边中的、位于相互邻接的位置的两个边；以及与两个所述边分别连接的连接线部，在所述边与所述连接线部之间的连接部形成的所述硅器件的角度为钝角。

3.根据权利要求1或2所述的硅器件，其特征在于，

所述边的至少一个具备边中央侧部和边端侧部，所述边端侧部是在俯视观察时所述硅器件相对于所述边中央侧部凹陷的凹部，所述边的所述边端侧部与所述角部曲线部或所述连接线部连接。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的硅器件，其特征在于，

所述边的至少一个还具备中央凹部，所述中央凹部形成于从所述角部曲线部或所述连接线部分离的位置，所述中央凹部是在俯视观察时所述硅器件相对于所述边的其他部分凹陷的凹部。

5.一种硅器件的制造方法，其特征在于，

该硅器件的制造方法用于制造在俯视观察时具有多边形的外形形状的平板状的硅器件，

该硅器件的制造方法具有：

通过在划分形成有所述硅器件的器件母基板形成贯通孔，来形成所述多边形的角部的角部形成工序；以及

将所述器件母基板与所述硅器件分离的分离工序。

6.根据权利要求5所述的硅器件的制造方法，其特征在于，

所述硅器件的所述多边形的角部的至少一个形成为包括：构成所述多边形的多个边中的、位于相互邻接的位置的两个边；以及与两个所述边分别相接并连接所述边的角部曲线部，在所述角部形成工序中形成所述角部曲线部。

7.根据权利要求5所述的硅器件的制造方法，其特征在于，

所述硅器件的所述多边形的角部的至少一个形成为包括：构成所述多边形的多个边中的、位于相互邻接的位置的两个边；以及与两个所述边分别连接的连接线部，在所述边与所述连接线部之间的连接部形成的所述硅器件的角度为钝角，在所述角部形成工序中形成所述连接线部。

8.根据权利要求6或7所述的硅器件的制造方法，其特征在于，

所述边的至少一个具备边中央侧部和边端侧部，所述边端侧部是在俯视观察时所述硅器件相对于所述边中央侧部凹陷的凹部，所述边的所述边端侧部与所述角部曲线部或所述连接线部连接，在所述角部形成工序中形成所述边端侧部。

9.根据权利要求6～8中任一项所述的硅器件的制造方法，其特征在于，

所述边的至少一个还具备中央凹部，所述中央凹部形成于从所述角部曲线部或所述连接线部分离的位置，所述中央凹部是在俯视观察时所述硅器件相对于所述边的其他部分凹陷的凹部，所述角部形成工序包括通过在所述器件母基板形成贯通孔来形成所述中央凹部的中央凹部形成工序。

10.根据权利要求5～9中任一项所述的硅器件的制造方法，其特征在于，

在所述角部形成工序中，利用硅的干蚀刻来形成所述贯通孔。

11.根据权利要求5～10中任一项所述的硅器件的制造方法，其特征在于，

所述硅器件的制造方法还具有将所述器件母基板中的、至少形成所述硅器件的部分的厚度减少为规定的厚度的薄板化工序，

所述角部形成工序包括：在所述器件母基板的基板面形成贯通孔凹部的贯通孔凹部形成工序；以及利用所述薄板化工序除去所述贯通孔凹部的底部而形成所述贯通孔的孔贯通工序。

12.根据权利要求5～10中任一项所述的硅器件的制造方法，其特征在于，

所述硅器件的制造方法还具有将所述器件母基板中的、至少形成所述硅器件的部分的厚度减少为规定的厚度的薄板化工序，

所述角部形成工序包括：在所述器件母基板的基板面形成贯通孔凹部的贯通孔凹部形成工序；利用所述薄板化工序减少所述贯通孔凹部的底部的厚度的底部薄化工序；以及在利用所述底部薄化工序减少了厚度的所述底部从所述贯通孔凹部的相反一侧形成孔而形成所述贯通孔的孔贯通工序。