[发明专利]光栅刻划机控制系统无效
申请号: | 201110453290.1 | 申请日: | 2011-12-30 |
公开(公告)号: | CN102513878A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 唐玉国;朱继伟;巴音贺希格;齐向东;于宏柱 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | B23Q15/00 | 分类号: | B23Q15/00 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 张伟 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光栅 刻划 控制系统 | ||
1.一种光栅刻划机控制系统,其特征在于:该控制系统包括工控机、主控系统、分度控制模块、刻划控制模块、锁相控制模块以及高速数据采集模块,所述工控机与所述控制系统的其它部分相连,负责整机运行状态反馈,所述主控系统根据不同的刻划方式实时控制光栅刻划机各部分的运行,并根据刻划方式的不同对所述光栅刻划机的内台进行微定位,所述分度控制模块和所述刻划控制模块通过对伺服电机的控制驱动所述光栅刻划机的分度机构和刻划机构运行,所述锁相控制模块在所述光栅刻划机以连续刻划的方式运行时使所述分度机构和所述刻划机构的输出相位基本相同,所述高速数据采集模块为所述主控系统进行微定位控制时提供实时的位置信息。
2.如权利要求1所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:所述锁相控制模块通过所述刻划机构的编码器反馈所述刻划机构的运行状态,计算出所述分度机构为保持与所述刻划机构运行相位相同情况下所述分度机构的控制量并传递给所述分度控制模块以驱动分度所述伺服电机,以使所述分度机构和所述刻划机构的输出相位基本相同。
3.如权利要求1所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:所述主控系统通过所述高速数据采集模块采集所述光栅刻划机内台的位置信息,通过微定位算法计算压电陶瓷的运动量对内台的误差进行补偿而实现内台的微定位。
4.如权利要求1所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:所述分度控制模块、所述主控系统以及所述高速数据采集模块与所述光栅刻划机的蜗轮蜗杆丝杠、外台、内台、压电陶瓷及激光干涉仪一起构成所述光栅刻划机的所述分度机构。
5.如权利要求4所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:所述分度控制模块与所述光栅刻划机的蜗轮蜗杆丝杠、外台、内台一起构成所述光栅刻划机的宏定位机构。
6.如权利要求4所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:所述主控系统和所述高速数据采集模块以及所述光栅刻划机的压电陶瓷、激光干涉仪一起构成所述光栅刻划机的微定位机构。
7.如权利要求1所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:所述刻划控制模块和所述锁相控制模块以及所述光栅刻划机的等速机构、刻刀、编码器一起构成所述光栅刻划机的所述刻划机构。
8.如权利要求1所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:所述刻划方式的不同包括连续刻划和间歇刻划。
9.如权利要求8所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:当所述光栅刻划机以所述间歇刻划的方式运行时,所述分度控制模块与所述光栅刻划机的蜗轮蜗杆丝杠、外台、内台运行一个光栅常数后停止运行并通过所述主控系统、所述高速数据采集模块和所述光栅刻划机的压电陶瓷与激光干涉仪进行第二级微定位,然后由所述刻划控制模块和所述光栅刻划机的所述等速机构与所述刻刀完成光栅的一条刻线。
10.如权利要求8所述的光栅刻划机控制系统,其特征在于:当所述光栅刻划机以所述连续刻划的方式运行时,所述分度控制模块与所述光栅刻划机的丝杠、外台和内台构成所述分度机构与所述刻划控制模块和所述光栅刻划机的所述等速机构和所述刻刀构成的所述刻划机构连续运行。
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