[发明专利]寻线过滤系统及方法无效

专利信息
申请号: 201110453770.8 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN103186704A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 张旨光;袁忠奎;蒋理;邹志军;薛晓光 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: G06F19/00 分类号: G06F19/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 过滤 系统 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种影像量测系统及方法,尤其涉及一种量测工具在量测线时的寻线过滤系统及方法。

背景技术

目前,利用影像量测软件在对待测工件进行量测时,在量测线时通常会使用自动寻线工具,该寻线工具能在指定区域内自动搜寻边界点点云,并能将点云拟合成一条线。但是在实际量测过程中,待测工件的边界很可能为非理想状态,常出现很多毛刺,凹凸区域或拐角。而自动寻线工具在量测过程中很容易取到一些不该取的杂点,例如拟合出的线和用户想要量测的线不符合,无法智能地过滤掉这些杂点,导致对量测结果产生影响。

发明内容

鉴于以上内容,有必要提供一种寻线过滤系统,可对需要拟合的边界点点云进行多次过滤处理,过滤掉不符合要求的边界点,并利用过滤后的边界点点云重新进行拟合。

鉴于以上内容,还有必要提供一种寻线过滤方法,可对需要拟合的边界点点云进行多次过滤处理,过滤掉不符合要求的边界点,并利用过滤后的边界点点云重新进行拟合。

一种寻线过滤系统,运行于计算机中,该系统包括:计算模块,用于当将边界点点云拟合成直线时,确定该直线为基准直线,计算各边界点投影于该基准直线所对应的投影点,以及各边界点到该基准直线的垂直距离;确定模块,用于对投影点进行排序,以确定出拟合该基准直线的边界点点云上的拐点;判断模块,用于判断所确定的拐点到所确定的基准直线的垂直距离是否大于一预设的过滤阀值;分割模块,用于当所确定的拐点到所确定的基准直线的垂直距离大于预设的过滤阀值时,利用该拐点将拟合该基准直线的边界点点云分割成两组边界点点云;所述的确定模块,还用于将所述分割后的两组边界点点云拟合成两条直线,并从该两条直线中重新确定一条直线为基准直线,以及确定出拟合该重新确定的基准直线的边界点点云上的拐点;过滤步骤:当所确定的拐点到所确定的基准直线的垂直距离不大于预设的过滤阀值时,以该所确定的基准直线为基准方向,对所有边界点进行距离过滤,将到该基准直线的像素距离大于一预设的距离阀值的边界点全部删除,得到过滤后的边界点点云。

一种寻线过滤方法,应用于计算机中,该方法包括:计算步骤:当将边界点点云拟合成直线时,确定该直线为基准直线,计算各边界点投影于该基准直线所对应的投影点,以及各边界点到该基准直线的垂直距离;确定步骤一:对投影点进行排序,以确定出拟合该基准直线的边界点点云上的拐点;判断步骤:判断所确定的拐点到所确定的基准直线的垂直距离是否大于一预设的过滤阀值;分割步骤:当所确定的拐点到所确定的基准直线的垂直距离大于预设的过滤阀值时,利用该拐点将拟合该基准直线的边界点点云分割成两组边界点点云;确定步骤二:将所述分割后的两组边界点点云拟合成两条直线,并从该两条直线中重新确定一条直线为基准直线,以及确定出拟合该重新确定的基准直线的边界点点云上的拐点,并以该重新确定的基准直线以及所确定的拐点返回执行判断步骤;过滤步骤:当所确定的拐点到所确定的基准直线的垂直距离不大于预设的过滤阀值时,以该确定的基准直线为基准方向,对所有边界点进行距离过滤,将到该基准直线的像素距离大于一预设的距离阀值的边界点全部删除,得到过滤后的边界点点云。

相较于现有技术,本发明所述的寻线过滤系统及方法,可自动对需要拟合的边界点点云进行多次过滤处理,过滤掉不符合预设要求的边界点,并将过滤后的边界点点云发送至量测工具中的寻线工具进行拟合,确保了寻线工具在寻线时的正确性,也提高了量测工具的量测精度。

附图说明

图1是本发明寻线过滤系统较佳实施例的运行环境示意图。

图2是图1中寻线过滤系统较佳实施例的功能模块图。

图3是本发明寻线过滤方法较佳实施例的流程图。

图4(包括图4A与图4B)是本发明确认拐点的示意图。

主要元件符号说明

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