[发明专利]磁共振成像方法及磁共振成像装置

权利要求书

1.一种磁共振成像方法，包括：

将成像区域的当前厚层划分为初始数目的检测子厚层，根据预定的初始扩展因子对各个检测子厚层进行编码厚度扩展；

利用第一快速自旋回波序列对扩展后的每个检测子厚层进行变形检测，并根据变形检测结果，确定当前厚层的各成像子厚层的位置及对应各成像子厚层的扩展因子；其中，所述第一快速自旋回波序列的读出梯度施加在选层梯度方向上；

根据所确定的各成像子厚层的位置及对应的扩展因子，对成像区域当前厚层的各个成像子厚层进行编码厚度扩展；

利用第二快速自旋回波序列对扩展后的各个成像子厚层进行成像扫描。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用第一快速自旋回波序列对扩展后的每个检测子厚层进行变形检测，并根据变形检测结果，确定所述当前厚层的各成像子厚层的位置及对应各成像子厚层的扩展因子包括：

利用第一快速自旋回波序列对扩展后的当前检测子厚层进行变形检测，得到片层变形Δ；根据关系式Δ＝Δ1-Δ2，和得到对应该检测子厚层的扩展因子其中，Δ1为激发变形，Δ2为读出梯度变形，GS_ro为施加在选层梯度方向上的读出梯度的幅值，GS_SS为选层梯度的幅值，a为根据激发厚度及施加的读出梯度所覆盖的成像区域大小及选层梯度方向的读出梯度的分辨率大小所确定的系数，TH为激发厚度；

将当前厚层各检测子厚层所对应的位置作为当前厚层的各成像子厚层的位置，将得到的各检测子厚层的扩展因子作为其对应的成像子厚层的扩展因子。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用第一快速自旋回波序列对扩展后的每个检测子厚层进行变形检测，并根据变形检测结果，确定所述当前厚层的各成像子厚层的位置及对应各成像子厚层的扩展因子包括：

A、利用第一快速自旋回波序列对扩展后的当前检测子厚层进行变形检测，得到片层变形Δ；

B、根据关系式Δ＝Δ1-Δ2，和得到对应该检测子厚层的扩展因子其中，Δ1为激发变形，Δ2为读出梯度变形，GS_ro为施加在选层梯度方向上的读出梯度的幅值，GS_SS为选层梯度的幅值，a为根据激发厚度及施加的读出梯度所覆盖的成像区域大小及选层梯度方向的读出梯度分辨率大小所确定的系数，TH为激发厚度；

C、保持各检测子厚层的编码厚度不变，根据得到的对应各检测子厚层的扩展因子，对各检测子厚层的激发厚度进行调整，根据调整后的各检测子厚层的激发厚度，调整当前厚层的检测子厚层的当前数目以及各检测子厚层对应的位置；

D、若所述当前数目等于所述初始数目，则将重新确定的当前厚层各检测子厚层所对应的位置作为当前厚层的各成像子厚层的位置，将得到的各检测子厚层的扩展因子作为其对应的成像子厚层的扩展因子；否则，将所述当前数目作为初始数目，根据所述重新确定的当前厚层各检测子厚层所对应的位置，将当前厚层划分为初始数目的检测子厚层，根据预定的初始扩展因子对新增的各个检测子厚层进行编码厚度扩展，根据得到的各扩展因子对调整后的已有检测子厚层进行编码厚度扩展，并返回执行步骤A。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，所述根据所确定的各成像子厚层的位置及对应的扩展因子，对成像区域当前厚层的各个成像子厚层进行编码厚度扩展包括：

对每个成像子厚层，根据所述成像子厚层对应的扩展因子，在所述成像子厚层选层方向的两侧进行对称扩展；或者，

对每个成像子厚层，根据所述成像子厚层对应的扩展因子及对应所述扩展因子的激发变形方向，在所述成像子厚层选层方向的两侧进行非对称扩展。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一快速自旋回波序列为一维或二维快速自旋回波序列。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二快速自旋回波序列为二维或三维快速自旋回波序列。