[发明专利]包含多酰胺组分的光刻胶无效
申请号: | 201110455160.1 | 申请日: | 2011-09-14 |
公开(公告)号: | CN102591145A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | G·P·普罗科普维茨;G·珀勒斯;刘骢;C·吴;C-B·徐;吴俊锡 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 多酰胺 组分 光刻 | ||
1.一种光刻胶组合物,所述组合物包括:
(a)一种或多种树脂;
(b)一种或多种光致酸产生剂化合物;和
(c)一种或多种多酰胺化合物。
2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物是非聚合的。
3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物是聚合的。
4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物的分子量都小于2000。
5.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物包含一种或多种下述部分:羟基、羧基、羧基(C1-C30)烷基、(C1-C30)烷氧基、磺酰基、磺酸、磺酸酯、氰基、卤素和酮。
6.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物包含2到6个酰胺基。
7.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物中的至少一个具有分子式:
其中R1、R2和R3独立地选自H、(C1-C30)烷基和酰胺基取代的(C1-C30)烷基;R1和R2,或R1和R3可与它们相连的原子一起形成5-到12-元杂环;和其中R1、R2和R3中至少之一是酰胺基取代的(C1-C30)烷基。
8.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物选自:顺-N,N’-(环己烷-1,2-二基)二乙酰胺;反-N,N’-(环己烷-1,2-二基)二乙酰胺;顺-N,N’-(环己烷-1,3-二基)二乙酰胺;反-N,N’-(环己烷-1,3-二基)二乙酰胺;顺-N,N’-(环己烷-1,4-二基)二乙酰胺;反-N,N’-(环己烷-1,4-二基)二乙酰胺;顺-N,N’-(环己烷-1,2-二基)双(N-甲基乙酰胺);反-N,N’-(环己烷-1,2-二基)双(N-甲基乙酰胺);N,N’-二乙酰基亚乙基二酰胺;N,N,N’,N’-四甲基酒石酸二酰胺;哌嗪-1,4-二甲醛;N,N,N’,N’-四甲基丙二酰胺;N,N,N’,N’-四丁基丙二酰胺;N,N,N’,N’-四(2-羟乙基)己二酰胺;和(己二酰双(氮烷三基))四(乙烷-2,1-二基)四叔丁基四碳酸酯。
9.一种形成光刻胶浮雕图像的方法,所述方法包括:
(a)将权利要求1的光刻胶组合物的涂层施加到基底上;
(b)将待图案化的光刻胶涂层在活化辐射下曝光,且将曝光的光刻胶层显影以提供浮雕图像。
10.根据权利要求9所述的方法,其中所述光刻胶涂层是浸没曝光的。
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