[发明专利]包含多酰胺组分的光刻胶无效

专利信息
申请号: 201110455160.1 申请日: 2011-09-14
公开(公告)号: CN102591145A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: G·P·普罗科普维茨;G·珀勒斯;刘骢;C·吴;C-B·徐;吴俊锡 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 包含 多酰胺 组分 光刻
【权利要求书】:

1.一种光刻胶组合物,所述组合物包括:

(a)一种或多种树脂;

(b)一种或多种光致酸产生剂化合物;和

(c)一种或多种多酰胺化合物。

2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物是非聚合的。

3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物是聚合的。

4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物的分子量都小于2000。

5.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物包含一种或多种下述部分:羟基、羧基、羧基(C1-C30)烷基、(C1-C30)烷氧基、磺酰基、磺酸、磺酸酯、氰基、卤素和酮。

6.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物包含2到6个酰胺基。

7.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物中的至少一个具有分子式:

其中R1、R2和R3独立地选自H、(C1-C30)烷基和酰胺基取代的(C1-C30)烷基;R1和R2,或R1和R3可与它们相连的原子一起形成5-到12-元杂环;和其中R1、R2和R3中至少之一是酰胺基取代的(C1-C30)烷基。

8.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其中所述一种或多种多酰胺化合物选自:顺-N,N’-(环己烷-1,2-二基)二乙酰胺;反-N,N’-(环己烷-1,2-二基)二乙酰胺;顺-N,N’-(环己烷-1,3-二基)二乙酰胺;反-N,N’-(环己烷-1,3-二基)二乙酰胺;顺-N,N’-(环己烷-1,4-二基)二乙酰胺;反-N,N’-(环己烷-1,4-二基)二乙酰胺;顺-N,N’-(环己烷-1,2-二基)双(N-甲基乙酰胺);反-N,N’-(环己烷-1,2-二基)双(N-甲基乙酰胺);N,N’-二乙酰基亚乙基二酰胺;N,N,N’,N’-四甲基酒石酸二酰胺;哌嗪-1,4-二甲醛;N,N,N’,N’-四甲基丙二酰胺;N,N,N’,N’-四丁基丙二酰胺;N,N,N’,N’-四(2-羟乙基)己二酰胺;和(己二酰双(氮烷三基))四(乙烷-2,1-二基)四叔丁基四碳酸酯。

9.一种形成光刻胶浮雕图像的方法,所述方法包括:

(a)将权利要求1的光刻胶组合物的涂层施加到基底上;

(b)将待图案化的光刻胶涂层在活化辐射下曝光,且将曝光的光刻胶层显影以提供浮雕图像。

10.根据权利要求9所述的方法,其中所述光刻胶涂层是浸没曝光的。

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