[发明专利]一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂无效
| 申请号： | 201110456343.5 | 申请日： | 2011-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102531780A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 安渊;周鹏;任晓燕;高小燕;马力 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C05G3/00 | 分类号： | C05G3/00 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 郭国中 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 工厂 光照 环境 草坪 速成 生长 调节剂 | ||
1.一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征在于，由生长促进液，植物营养液，碳源营养液和清水混合组成，每升该生长调节剂中含有生长促进液1-2ml，植物营养液1-2ml，碳源营养液8-10ml，清水为余量。
2.根据权利要求1所述的一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征是，所述的生长促进液由赤霉素GA和α-萘乙酸NAA、清水组成；
所述的植物营养液由锌Zn、镁Mg和锰Mn、清水组成；
所述的碳源营养液由琥珀酸和柠檬酸、清水组成。
3.根据权利要求2所述的一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征是，每升该生长调节剂中含有赤霉素GA：144-288μmol/L，α-萘乙酸NAA：8-16μmol/L。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征是，每升该生长促进液中含有赤霉素GA：144mmol/L和α-萘乙酸NAA：8mmol/L。
5.根据权利要求2所述的一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征是，每升该生长调节剂中含有Zn：1-2mmol/L，Mg：4-8mmol/L，Mn：1-2mmol/L。
6.根据权利要求1或2或5所述的一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征是，每升该植物营养液中含有Zn：1mol/L、Mg：4mol/L和Mn：1mol/L。
7.根据权利要求2所述的一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征是，每升该生长调节剂中含有琥珀酸：80-100μmol/L，柠檬酸：80-100μmol/L。
8.根据权利要求1或2或7所述的一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征是，每升该碳源营养液中含有琥珀酸：10mmol/L和柠檬酸：10mmol/L。
9.根据权利要求1或2所述的一种工厂化低光照环境下草坪快速成坪的生长调节剂，其特征是，每升该生长调节剂中含有赤霉素GA：144-288μmol/L，α-萘乙酸NAA：8-16μmol/L，Zn：1-2mmol/L，Mg：4-8mmol/L，Mn：1-2mmol/L，琥珀酸：80-100μmol/L，柠檬酸：80-100μmol/L。
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