[发明专利]沉积掩模

说明书

于2011年3月24日在韩国知识产权局提交了第10-2011-0026424号韩国专利申请，该申请的公开通过引用全部包含于此。

技术领域

本发明涉及一种沉积掩模，更具体地讲，涉及一种即使在向其施加拉力时仍可保持其图案精度的沉积掩模。

背景技术

电致发光装置是自发光显示装置，由于其宽视角、高对比度和高响应速度而作为下一代显示装置备受关注。

根据形成发光层的材料，将这些电致发光装置分为无机电致发光装置和有机电致发光装置。有机电致发光装置与无机电致发光装置相比具有更高的亮度和更快的响应速度，并且有机电致发光装置能够显示彩色图像。由于这些优点，正在积极地开发有机电致发光装置。

发明内容

根据一个实施例，提供了一种在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模，所述沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉力而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第n初始设计图案在内的第一初始设计图案至第n初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第n校正图案，第一初始设计图案至第n初始设计图案沿第一方向顺序地布置，其中，第一校正图案至第n校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第n初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。

可以通过第一初始设计图案和第n初始设计图案中的每个初始设计图案的与每个第一最外侧对应的第一侧的相对端部处的第一点和第二点以及在与施加拉力的方向相反的方向上与所述第一侧的第一中点分开第一距离的第三点来确定第一曲率。

可以通过第一初始设计图案至第n初始设计图案中的每个初始设计图案的与每个第二最外侧对应的第二侧的相对端部处的第四点和第五点以及在与施加拉力的方向垂直的方向上与所述第二侧的第二中点分开第二距离的第六点来确定第二曲率。

第一校正图案至第n校正图案中的每个可以包括多条缝隙线。

由于拉力，可以将缝隙线布置在第一校正图案至第n校正图案中的每个校正图案中。

所述沉积掩模还可以包括在拉力的作用下放置在掩模框架上的第一装置图案至第n装置图案，其中，第一装置图案至第n装置图案中的每个具有由第一方向限定的第一长度和由第二方向限定的第一宽度，第一初始设计图案至第n初始设计图案分别对应于第一装置图案至第n装置图案，并且具有由第一方向限定的第二长度和由第二方向限定的第二宽度，其中，第二长度小于第一长度，第二宽度大于第一宽度。

第二长度与第一长度的比和第二宽度相对于第一宽度的比可以由拉力的大小来确定。

第一校正图案至第n校正图案可以包括第二校正图案和第(n-1)校正图案，第一校正图案至第n校正图案中的每个校正图案和第一初始设计图案至第n初始设计图案中的每个初始设计图案可以包括至少四侧，其中，第一校正图案包括包括在第一最外侧中的第一侧、包括在第二最外侧中的第二侧和第三侧以及面向第二校正图案的第四侧，第n校正图案包括包括在第一最外侧中的第一侧、包括在第二最外侧中的第二侧和第三侧以及面向第(n-1)校正图案的第四侧，第二校正图案至第(n-1)校正图案中的每个包括包括在第二最外侧中的第二侧和第三侧、面向前一校正图案的第一侧以及面向下一校正图案的第四侧。

第一校正图案的第一侧可以相对于第一初始设计图案向内凹进，第n校正图案的第一侧可以相对于第n初始设计图案向内凹进，第一校正图案至第n校正图案的第二侧和第三侧可以相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。

第一初始设计图案至第n初始设计图案中的每个可以对应于放置在掩模框架上的多个显示面板中的任何一个显示面板。

第一初始设计图案至第n初始设计图案中的每个可以包括多个开口。

根据另一实施例，提供了一种在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模，所述沉积掩模包括沿着与施加到沉积掩模的拉力的方向平行的第一方向分别对应于按行布置的多个显示面板的第一校正图案至第n校正图案，其中，第一校正图案至第n校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第n初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。