[发明专利]光学邻近效应修正方法及相应的掩膜图形形成方法

权利要求书

1.一种光学邻近效应修正方法，包括模拟预期光刻图形，获得所模拟形成的光刻图形与预期光刻图形的差，依据所述差调整所述预期光刻图形，其特征在于，依据所述差对预期光刻图形进行调整包括根据模拟形成的光刻图形与预期光刻图形的差与调整因子之间的预设关系，获得与所模拟形成的光刻图形与预期光刻图形的差相对应的调整因子，由所述差与所述调整因子相乘获得所述预期光刻图形的调整量，以及根据该调整量调整所述预期光刻图形。

2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述调整因子的大小随所述差的增大而变大。

3. 根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述调整因子小于1。

4. 一种用于形成掩膜图形的方法，其包括通过权利要求1到3中任意一个所述的光学邻近效应修正方法获得预期光刻图形，根据所述预期光刻图形在掩膜版上形成掩膜图形。