[发明专利]平面八边形螺旋结构的生成方法有效
申请号: | 201110457980.4 | 申请日: | 2011-12-30 |
公开(公告)号: | CN102521469A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 全冯溪;叶红波;周伟 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 平面 八边形 螺旋 结构 生成 方法 | ||
1.一种平面八边形螺旋结构的生成方法,其特征在于,包括:
设置所述平面八边形螺旋结构的版图参数值;
根据所述版图参数值设定所述平面八边形螺旋结构的线圈向外或向内螺旋的分段渐变量以及各圈线圈相对于正八边形结构的顶点偏移量;
根据所述版图参数值、分段渐变量以及顶点偏移量进行线圈的向外或向内螺旋,各圈线圈各分段依次渐变一分段渐变量并顶点偏移一顶点偏移量,得到各圈线圈的各分段的内边和顶点以及外边和顶点,形成所述平面八边形螺旋结构。
2.如权利要求1所述的平面八边形螺旋结构的生成方法,其特征在于,所述版图参数包括八边形螺旋结构的外径D或者内径R、圈数N、线圈宽度W以及线圈间距S。
3.如权利要求2所述的平面八边形螺旋结构的生成方法,其特征在于,所述分段渐变量为(W+S)/8,其使得各圈线圈各分段到所述平面八边形螺旋结构的中心的距离以等差变化的方式向外或向内螺旋。
4.如权利要求3所述的平面八边形螺旋结构的生成方法,其特征在于,某圈线圈当前分段的内边或外边到原点的距离等于前一分段的内边或外边到原点的距离加上所述分段渐变量。
5.如权利要求4所述的平面八边形螺旋结构的生成方法,其特征在于,所述平面八边形螺旋结构的线圈向内螺旋收缩时,所述分段渐变量取负值,向外螺旋扩张时,所述分段渐变量取正值。
6.如权利要求1所述的平面八边形螺旋结构的生成方法,其特征在于,所述顶点偏移量为(1+k)*(W+S)/8,其中k值由正八边形结构的内角决定,所述顶点偏移量使得各圈线圈八边形的每个顶点坐标在正八边形的顶点坐标的基础上沿螺旋方向进行偏移。
7.如权利要求6所述的平面八边形螺旋结构的生成方法,其特征在于,所述k值等于tan22.5°
8.如权利要求1所述的平面八边形螺旋结构的生成方法,其特征在于,所述平面八边形螺旋结构为平面八边形螺旋电感结构、平面八边形变压器结构或平面八边形螺旋线结构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110457980.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:单片微机存储总线控制方式的数码管驱动电路
- 下一篇:一种离子发生器