[发明专利]光纤母材、光纤母材的制造方法以及光纤的制造方法

说明书

本申请是申请日为2005年11月29日、申请号为200510126996.1、发明名称为“光纤母材、光纤母材的制造方法以及光纤的制造方法”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及具有芯层和包围该芯层的包覆层、主要使用于光通信的光纤的制造方法以及光纤母材的制造方法。

背景技术

最近，除提高光纤的光传送特性之外，对于降低光纤价格的要求日益增高。

作为光纤的制造方法，已知气相带轴淀积法(Vapor-phase Axial Deposition method：VAD法)、改进型化学气相淀积法(Modified Chemical Vapor Deposition method：MCVD法)、外侧气相淀积法(Outside Vapor Deposition method：OVD法)、等离子化学气相淀积法(Plasma Chemical Vapor Deposition method：PCVD法)、溶胶-凝胶法、ロッドィンチュ一ブ法(Rod-In-Tube method：RIT法)以及组合这些的制造方法。

但是，这些制造方法已经成熟，改进的余地少。因此，实现制造成本的削减当然不会容易。另外，现在的状况是，由于在公元2000年前后广泛进行的设备投资所设置的诸多光纤制造装置的制造能力过剩，进行追加的投资或开发也极为困难。并且，这些老式生产设备成为阻碍降低制造成本的重要原因。

关于现在的光纤的制造环境，由于是如上所述的状况，因此，目前期望的光纤制造方法是，在极力充分运用现有制造设备的同时，并优化组合以往的技术来削减制造成本的光纤的制造方法。

例如，在形成占光纤大部分的包覆层中，将用OVD法这样的气相合成生成的石英类玻璃微粒淀积在芯棒外周形成多孔质母材层，将其进行热处理制造透明玻璃母材层的方法是作为低成本且高品质的大型光纤母材的制造方法的优异方法。

但是，将用OVD法这样的气相合成形成的多孔质层进行热处理形成透明玻璃母材层的透明玻璃化装置，以防止混入从发热体产生的杂质为目的，通常是使用具有二氧化硅玻璃的炉心管的加热炉。但是，该炉心管在多孔质层的透明玻璃化所需要的接近1600℃的温度下容易软化变形。并且，特别是为使大型的光纤母材透明玻璃化，则需要粗径的炉心管，但在该粗径炉心管中存在耐久性的问题。为解决该问题，日本专利第2565712号公报中提出了制造不透明玻璃母材的方法是，将其直接拉丝成为光纤的方法。

发明内容

本发明是鉴于以上情况而进行的，其目的在于，得到大型的光纤母材以及可以谋求削减光纤的制造成本的光纤母材的制造方法以及光纤的制造方法。

为解决上述课题，达到目的，本发明涉及的光纤母材的制造方法是具有芯层和围绕该芯层的包覆层的光纤母材的制造方法，该方法具有以下工序：在具有芯层且呈棒状的包含石英类玻璃的芯棒的外周淀积石英类玻璃微粒形成多孔质母材层的多孔质母材层形成工序；和在减压下、非活性气体和卤素气体的氛围下、非活性气体和卤素类化合物气体的氛围的至少任意一种的条件下将上述多孔质母材层脱水的脱水工序；和在减压下将脱水后的上述多孔质母材层烧结达到成为含有独立气泡的半透明玻璃母材层的烧结工序；和在非活性气体(氦气除外)氛围中将含有独立气泡的上述半透明玻璃母材层透明玻璃化进而成为上述包覆层的透明玻璃化工序。

另外，本发明涉及的光纤制造方法是具有芯层和围绕该芯层的包覆层的光纤的制造方法，该方法具有以下工序：在具有芯层且呈棒状的包含石英类玻璃的芯棒的外周淀积石英类玻璃微粒形成多孔质母材层的多孔质母材层形成工序；和在减压下、非活性气体和卤素气体的氛围下、非活性气体和卤素类化合物气体的氛围的至少任意一种的条件下将上述多孔质母材层脱水的脱水工序、和在减压下将脱水后的上述多孔质母材层烧结达到成为含有独立气泡的半透明玻璃母材层的烧结工序；和将含有上述芯棒和上述半透明玻璃母材层的半透明母材进行拉丝使上述半透明玻璃母材层变为透明玻璃层的拉丝工序。