[发明专利]一种用于硅单晶片的表面研磨组合物无效
| 申请号： | 201110460310.8 | 申请日： | 2011-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102585766A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 王坤燕;唐培松;曹枫;陈海锋;徐敏虹;潘国祥 | 申请（专利权）人： | 湖州师范学院 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 313000 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶片 表面 研磨 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于硅单晶片的表面研磨组合物，所述的组合物包含：
约10％到35％重量的微粒研磨剂；
约5％到8％重量的湿润剂；
约1％到3％重量的悬浮剂；
约0.5％到2％重量的表面活性剂
约0.2％到1％重量的金属离子络合剂；和
余量为去离子水。
2.权利要求1的组合物，其中所述的微粒研磨剂选自氧化铝、氧化铁、碳酸钙、碳化硅。
3.权利要求2的组合物，其中所述的微粒研磨剂的莫式硬度为9。
4.权利要求2的组合物，其中所述的微粒研磨剂包含熔融氧化铝。
5.权利要求1的组合物，其中所述的湿润剂包含聚乙二醇、乙二醇。
6.权利要求5的组合物，其中所述的聚乙二醇分子量为200到2000。
7.权利要求1的组合物，其中所述的悬浮剂选自纤维素、丙烯酸乳液、黄原胶、卡拉胶。
8.权利要求6的组合物，其中所述的悬浮剂包含羧甲基纤维素、羟乙基纤维素醚。
9.权利要求1的组合物，其中所述的表面活性剂包含聚(3)乙氧基C12-15醇、十二烷基乙氧基磺基甜菜碱。
10.权利要求1的组合物，其中所述的金属离子络合剂包含N，N，N，′N′-四(2-羟丙基)乙二胺、聚N-乙烯基吡咯烷酮。
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