[发明专利]氮化硅坩埚涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种氮化硅坩埚涂层的制备方法，包括如下步骤：

向去离子水中加入粘接剂、分散剂和氮化硅，混合均匀得到浆料；所述氮化硅、粘结剂和分散剂的重量比为100∶(15～28)∶(5～12)，所述氮化硅和去离子水的重量比为1∶(3～4)；所述粘结剂为有机硅烷、硅酸、多元醇、聚乙烯醇和丙烯酸酯中的一种；

将所述浆料喷涂或浸涂于坩埚内表面，在260℃～550℃于惰性气体氛围中进行煅烧和退火。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述混合的方式为超声波搅拌。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机硅烷为四乙氧基硅烷。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述分散剂为甲基纤维素、羟甲基纤维素、乙基纤维素、羟乙基纤维素、丙基纤维素、2-羟丙基纤维素、2-羟乙基甲基纤维素、2-羟乙基乙基纤维素、2-羟丙基甲基纤维素、2-羟丁基甲基纤维素、乙酸纤维素、乙酸邻苯二甲酸纤维素、羧甲基纤维素和聚环氧乙烷中的一种或几种。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述分散剂为甲基纤维素。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述惰性气体为氩气。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述煅烧温度为300℃～500℃。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氮化硅的粒径为1μm～5μm。

9.一种氮化硅坩埚涂层，其特征在于，含氧量为1wt％～5wt％。