[发明专利]一种阵列基板、液晶显示装置及取向摩擦方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种阵列基板、液晶显示装置及取向摩擦方法。

背景技术

目前的宽视角液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称为LCD)主要包括：高级超维场转换型(ADvanced Super Dimension Switch，ADSDS，简称ADS)和共平面切换型(In-Plane Switching，简称为IPS)。其中，ADS型TFT-LCD通过同一平面内狭缝电极边缘所产生的电场以及狭缝电极层与板状电极层间产生的电场形成多维电场，使液晶盒内狭缝电极间、电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转，从而提高了液晶工作效率并增大了透光效率。高级超维场转换技术可以提高TFT-LCD产品的画面品质，具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差、无挤压水波纹(push Mura)等优点。

如图1所示，以一种ADS型LCD为例简要介绍其主要生产过程：在衬底基板上形成以阵列方式排列的像素单元，且每个像素单元中包括公共电极01(可视为板状电极)和像素电极02(可视为狭缝电极)，其中，像素电极02上设有与数据线03平行的狭缝04；在形成像素单元结构后，需要沉积PI(聚酰亚胺)材料形成取向膜，并需要对该取向膜进行取向摩擦以完成阵列基板的制造。在图1中，将数据线作为基准线；将坐标系中的纵坐标Y的方向作为数据线方向；像素电极的狭缝方向与数据线方向相同；基板的前进方向12与Y方向相反；取向膜的摩擦方向11与像素电极的狭缝方向形成一定夹角。

在现有技术中，取向膜的摩擦方向11与基板的前进方向12相对的方向(即Y方向)的夹角比较小，使得摩擦辊和阵列基板在相对运动时，在Y方向上，两者的相对速度较大，会造成磨擦辊和基板之间相互损伤，从而影响了摩擦均匀性，进而导致灰度不良。

发明内容

本发明的实施例提供一种阵列基板、液晶显示装置及取向摩擦方法，用以提高摩擦均匀性。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种阵列基板，包括：栅线、数据线、所述栅线和数据线限定的像素单元，以及形成在所述阵列基板上的取向膜；其中，所述像素单元包括薄膜晶体管、第一电极和设有狭缝的第二电极；所述第二电极的狭缝方向与所述数据线方向呈第一非零预设角度，所述取向膜的摩擦方向与所述第二电极的狭缝方向呈第二非零预设角度，并且所述取向膜的摩擦方向与所述数据线方向所呈角度大于所述第二非零预设角度。

另一方面，提供一种液晶显示装置，包括：对盒后的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板为上述的阵列基板，所述彩膜基板上取向膜的摩擦方向与所述阵列基板上取向膜的摩擦方向相反。

又一方面，提供一种取向摩擦方法，所述方法包括：

设置阵列基板的前进速度以及摩擦辊的轴向和角速度；其中，所述阵列基板的前进速度所在直线的方向与所述阵列基板上数据线的方向相反，所述摩擦辊的轴向与所述阵列基板上数据线的方向呈第三非零预设角度，所述阵列基板上第二电极的狭缝方向与所述数据线的方向呈第一非零预设角度；

所述阵列基板按照所设置的前进速度行进，并与所述摩擦辊相接触，以摩擦所述阵列基板上的取向膜，使得所述取向膜的摩擦方向与所述第二电极的狭缝方向呈第二非零预设角度；所述取向膜的摩擦方向与所述摩擦辊的轴向垂直，并且所述取向膜的摩擦方向与所述数据线方向所呈角度大于所述第二非零预设角度。

本发明实施例提供一种阵列基板、液晶显示装置及取向摩擦方法，一方面，设置第二非零预设角度满足高开口率和高透过率的需要，保证了液晶显示器的正常显示，另一方面，通过设置第二电极的狭缝方向与数据线方向呈第一非零预设角度，并且取向膜的摩擦方向与数据线方向所呈角度大于第二非零预设角度，在摩擦辊和阵列基板在相对运动时，在数据线方向上两者的相对速度减小，使得磨擦辊和基板之间相互损伤减小，从而提高了摩擦均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中阵列基板的俯视图；

图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图；

图3为图2示出的阵列基板中的狭缝方向、摩擦方向、数据线方向关系示意图；