[发明专利]一种水性免涂底漆的高性能外墙涂料无效

专利信息
申请号: 201110461594.2 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN102533028A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 李松财;闫星星;王存军;刘宪文;陈鑫 申请(专利权)人: 陕西宝塔山油漆股份有限公司
主分类号: C09D133/00 分类号: C09D133/00;C09D1/00;C09D5/08;C09D7/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 713100*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 水性 底漆 性能 外墙 涂料
【说明书】:

技术领域

专利涉及将纳米硅溶胶和丙烯酸乳液复合应用于外墙涂料中,制成一种水性免涂底漆的高性能外墙涂料。

背景技术

随着建筑业的迅猛发展,高层建筑越来越多,对现代建筑外墙涂料提出了更高的要求。多数省市建筑外墙现已限制使用面砖,这就要求外墙涂装材料不仅要有良好的装饰性,还应具备优异的耐大气老化性、耐沾污性、保光保色性和抗发花性。外墙建筑基材主要为水泥砂浆、混凝土,其基面修饰材料主要为水泥基腻子,此类材料均碱性很强。因此,须用抗碱底漆封闭后再涂装面漆。然而该方案存在如下问题:(1)耐酸耐碱差、耐沾污差、耐候性差;(2)抗碱底漆因含有颜填料,必然存在毛细孔,随时间推移,墙体里的钙镁离子会通过毛细孔渗出,导致泛碱发花;(3)封闭底漆没有遮盖力,容易漏涂,导致泛碱发花;(4)底漆面漆配套施工,周期长,用工成本高,效益低。上述问题制约了普通外墙涂料在高层建筑上的推广使用,难以满足市场需求。

对纳米硅溶胶-丙烯酸复合为涂料的研究已久,具有很高的应用价值。专利申请号200810010114.9用改性硅溶胶制备水性涂料需单独配置罩面漆,不是我们追求的高效简便施工的涂料。

发明内容

本发明制得一种纳米硅溶胶-丙烯酸乳液复合外墙涂料,纳米硅溶胶颗粒均匀分布于丙烯酸乳液粒子间,由于析胶时的氧化硅的活性高,纳米粒子对基材的渗透力强,细小的颗粒能通过毛细管作用渗透到基材的内部,并能与基材中的碱性物质Ca(OH)2反应生成硅酸钙,通过机械咬合与化学键合的综合结果使涂膜具有较强的附着力,并从根源上消除碱性。成膜后,有机高分子均匀地分布在硅-氧-硅无机涂层的间隙中,屏蔽无机涂层中残存的亲水基团,使涂膜在经受冷热交替时,涂层的收缩得到缓冲,并使涂层具有一定的弹性,所形成的涂层兼有无机涂料和有机涂料的特性,弥补两者之不足。

本发明实现上述性能所采取的技术方案为:

该涂料采用纳米硅溶胶与丙烯酸乳液为成膜物,主要包括如下重量份数的组分:

上述水性涂料组分中纳米硅溶胶为深圳市吉化化工KH-纳米硅溶胶与江苏国联化工CH83-120纳米硅溶胶中任意一种;

上述水性涂料组分中保护胶为汉高Dispersant 05与汉高Colorsperse 188A中任意一种;

上述水性涂料组分中丙烯酸乳液为陶氏化学AC-808A与巴斯夫Acronal PA-237中任意一种;

上述水性涂料组分中颜料为美利联RCL-595钛白粉与杜邦R-706钛白粉中任意一种;

上述水性涂料组分中填料按重量配比为滑石粉∶高岭土∶重钙∶硅灰石粉=1∶0.5∶2∶0.1-0.5;

上述水性涂料组分中纤维素为陶氏化学QP-100MH与亚跨龙250HHBR中任意一种;

上述水性涂料组分中消泡剂为圣诺普科NXZ与艾迪科B-943中任意一种;

上述水性涂料组分中润湿剂为陶氏化学X-405与科宁PE100中任意一种;

上述水性涂料组分中分散剂为圣诺普科Dispersant 5040与金源化学TCP-8045中任意一种;

上述水性涂料组分中酸碱调节剂为陶氏化学AMP-95与金源化学TCP-95中任意一种;

上述水性涂料组分中防腐剂为舒美A26与霍夫曼D29中任意一种;

上述水性涂料组分中增稠剂为圣诺普科SN-636与圣诺普科SN-612NC中至少一种。

上述水性涂料组分中流平剂为科宁DSX-2000与维高化工LS-200中任意一种;

上述水性涂料组分中成膜助剂为伊士曼Texanol;

本发明的一种水性免底漆高性能外墙涂料的制备方法包括如下步骤:

1、改性纳米硅溶胶的制备:

向8-13份纳米硅溶胶中加保护胶0.5-1份,1000~1200转/分,中速分散5-10min待用。

2、涂料的制备:

a依次加入配方量的软水和配方量的纤维素,1000~1200转/分,中速分散10~15min至完全溶解透明。

b投入配方量的润湿剂、分散剂、酸碱调节剂、丙二醇、1/2配方量的消泡剂,1000~1200转/分,中速分散5~10min。

c投入配方量改性纳米硅溶胶,1000~1200转/分,中速分散5~10min。

d投入配方量的颜料和配方量的填料,2000~2300转/分,高速分散15~20min,至细度≤40μM。

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