[发明专利]碱反应性光酸发生剂以及包含其的光致抗蚀剂

权利要求书

1.一种式(I)或(II)的光酸发生剂化合物

(I)R⁵M⁺R⁶R⁷_r^-O₃S-R¹_p-X_y-(R²Z_wR³)_x

(II)(P^g-R⁴-Z²)_g1R⁵M⁺R⁶R⁷_r3^-O₃S-R¹_p-X_y-(R²Z_wR³)_x1(R²Z¹-R⁴P^g)_g2

其中每个R¹选自(C₁-C₁₀)烷基、含杂原子的(C₁-C₁₀)烷基、氟代(C₁-C₁₀)烷基、含杂原子的氟代(C₁-C₁₀)烷基、(C₆-C₁₀)芳基和氟代(C₆-C₁₀)芳基；每个R²是化学键或(C₁-C₃₀)烃基；每个R³是H或(C₁-C₃₀)烃基；每个R⁴是化学键或(C₁-C₃₀)烃基；R⁵、R⁶和R⁷独立地选自任选取代的碳环芳基、烯丙基和任选取代的(C₁-C₂₀)烷基；X是化学键或二价连接基团；Z选自β-杂原子-取代内酯、乙酰乙酸酯、-C(O)-O-C(O)-R¹-、-C(CF₃)₂O-、-COO-R^f-、-SO₃-R^f-、-CH_3-z(CH₂OC(＝O)-R^f-)_z和包括碱反应性基团的(C₅-C₃₀)环烃基；Z¹是二价碱反应性基团；Z²选自β-杂原子-取代内酯、-C(O)-O-C(O)-R¹-、乙酰乙酸酯、-COO-R^f、-SO₃-R^f-、-CH_3-z(CH₂OC(＝O)-R^f-)_z和包括碱反应性基团的(C₅-C₃₀)环烃基；每个R^f独立为氟代(C₁-C₁₀)烷基；P^g为可聚合基团；p＝0-6；w＝1-3；x＝1-4；x1＝0-4；y＝0-5；z＝1-2；g1＝0-3；g2＝0-3；r＝0-1；M是S或I；其中当M＝I时，r＝0，和当M＝S时，r＝1，前提是g1和g2中的至少一个≠0。

2.一种聚合物，所述聚合物包括作为聚合单元的根据权利要求1的式(II)的光酸发生剂化合物。

3.一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括权利要求2所述的聚合物。

4.根据权利要求1所述的光酸发生剂化合物，其中X选自-C(O)O-、-C(O)S-、-SO₃-、-S(O)-、-SO₂-、及其组合。