[发明专利]热喷涂粉末、形成热喷涂涂层的方法以及抗等离子体构件

权利要求书

1.一种等离子体处理室，用于处理由等离子体处理的物体，所述等离子体处理室内具有抗等离子体构件，

其中所述抗等离子体构件包括：

衬底；以及

热喷涂涂层，设置在暴露于所述等离子体的所述衬底的至少一个表面上，

其中，所述热喷涂涂层由热喷涂粉末通过热喷涂形成，所述热喷涂粉末包含原子序从60到70的任意稀土元素的氧化物组成的粒化烧结颗粒，

其中，组成所述粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸是2到10μm，且

其中，所述粒化烧结颗粒的抗压强度是7到55MPa。

2.如权利要求1所述的等离子体处理室，其中所述热喷涂涂层通过等离子体热喷涂所述热喷涂粉末形成。

3.如权利要求1所述的等离子体处理室，其中所述粒化烧结颗粒的细孔尺寸的频率分布在等于或大于0.9μm处以及等于或小于2.4μm处具有局部最大值。

4.如权利要求2所述的等离子体处理室，其中热喷涂粉末的平均颗粒尺寸与费歇尔尺寸之比为1.1至6.5。

5.如权利要求1-4任一项所述的等离子体处理室，其中所述衬底由铝、铝合金、含铝陶瓷以及含碳陶瓷中至少一种物质形成。

6.一种抗等离子体构件，设置并用在等离子体处理室内，所述等离子体处理室用于处理由等离子体处理的物体，所述抗等离子体构件包括：

衬底；以及

热喷涂涂层，设置在暴露于所述等离子体的所述衬底的至少一个表面上，

其中，所述热喷涂涂层由热喷涂粉末通过热喷涂形成，所述热喷涂粉末包含原子序从60到70的任意稀土元素的氧化物组成的粒化烧结颗粒，组成所述粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸是2到10μm，且所述粒化烧结颗粒的抗压强度是7到55MPa，且

其中热喷涂粉末的平均颗粒尺寸与费歇尔尺寸之比为1.1至6.5。

7.如权利要求6所述的抗等离子体构件，其中所述热喷涂涂层通过等离子体热喷涂所述热喷涂粉末形成。

8.如权利要求6所述的抗等离子体构件，其中所述粒化烧结颗粒的细孔尺寸的频率分布在等于或大于0.9μm及等于或小于2.4μm处具有局部最大值。

9.如权利要求6-8任一项所述的抗等离子体构件，其中所述衬底由铝、铝合金、含铝陶瓷以及含碳陶瓷中至少一种物质形成。

10.一种抗等离子体构件，设置并用在等离子体处理室内，所述等离子体处理室用于处理由等离子体处理的物体，所述抗等离子体构件包括：

衬底；以及

热喷涂涂层，设置在暴露于所述等离子体的所述衬底的至少一个表面上，

其中，所述热喷涂涂层由热喷涂粉末通过热喷涂形成，所述热喷涂粉末包含原子序从60到70的任意稀土元素的氧化物组成的粒化烧结颗粒，组成所述粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸是2到10μm，且所述粒化烧结颗粒的抗压强度是7到55MPa，且

其中所述粒化烧结颗粒的细孔尺寸的频率分布在等于或大于0.9μm及等于或小于2.4μm处具有局部最大值。

11.如权利要求10所述的抗等离子体构件，其中所述热喷涂涂层通过等离子体热喷涂所述热喷涂粉末形成。

12.如权利要求10或11所述的抗等离子体构件，其中所述衬底由铝、铝合金、含铝陶瓷以及含碳陶瓷中至少一种物质形成。

13.一种等离子体处理室，用于处理由等离子体处理的物体，所述等离子体处理室内具有抗等离子体构件，

其中所述抗等离子体构件包括：

衬底；以及

热喷涂涂层，设置在暴露于所述等离子体的所述衬底的至少一个表面上，

其中，所述热喷涂涂层由热喷涂粉末通过热喷涂形成，所述热喷涂粉末包含原子序从60到70的任意稀土元素的氧化物组成的粒化烧结颗粒，组成所述粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸是2到10μm，且所述粒化烧结颗粒的抗压强度是7到55MPa，且

其中热喷涂粉末的平均颗粒尺寸与费歇尔尺寸之比为1.1至6.5。

14.如权利要求13所述的等离子体处理室，其中所述热喷涂涂层通过等离子体热喷涂所述热喷涂粉末形成。