[发明专利]聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法

权利要求书

1.一种聚合物，所述聚合物包括：

由下述通式(I)单体形成的第一单元：

其中R₁代表氢或C₁到C₃烷基；R₂代表单键或C₁到C₁₀有机基团；R₃代表氢原子或C₁到C₁₀有机基团；R₄各自独立的代表氢原子或C₁到C₁₀有机基团，键合在共有碳原子上的R⁴基团任选一起形成环；以及R₅各自独立代表C₁到C₁₀有机基团，任选一起形成环；以及

含有内酯部分的第二单元。

2.权利要求1的聚合物，其中R₂表示C₁到C₁₀直链或支链亚烷基或C₂到C₁₀直链或支链亚烯基。

3.权利要求1或2的聚合物，其中R₅独立表示C₁到C₆烷基，或一起形成C₃到C₆的环烷基。

4.权利要求1到3中任一项的聚合物，其中聚合物进一步包括第三单元，所述第三单元包括醚，酯，极性基团或酸不稳定部分，其中第三单元与第一单元和第二单元不同。

5.一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：

包括由下述通式(I)单体形成的第一单元的聚合物：

其中R₁代表氢或C₁到C₃烷基；R2代表单键或C₁到C₁₀有机基团；R₃代表氢原子或C₁到C₁₀有机基团；R₄各自独立的代表氢原子或C₁到C₁₀有机基团，键合在共有碳原子上的R⁴基团任选一起形成环；以及R₅各自独立代表C₁到C₁₀有机基团，任选一起形成环；以及

光产酸剂。

6.权利要求5的光致抗蚀剂组合物，其中聚合物进一步包括含有内酯部分的第二单元。

7.权利要求6的光致抗蚀剂组合物，其中聚合物进一步包括由酸不稳定烷基或烷氧基(甲基)丙烯酸酯单体形成的第二单元。

8.一种涂覆的基体，所述基体包括基体和基体表面的权利要求5到7中任一项的光致抗蚀剂组合物层。

9.一种形成光刻图案的方法，所述方法包括：

(a)提供基体，所述基体的表面上包括一个或多个待形成图案的层；

(b)施加权利要求5到7中任一项的光致抗蚀剂组合物的层到一个或多个待形成图案的层上；

(c)将光致抗蚀剂组合物层于光化辐射中图案化曝光；

(d)在曝光后烘烤过程中加热曝光的光致抗蚀剂组合物层；

以及

(e)对光致抗蚀剂组合物层施加显影剂除去光致抗蚀剂层的一部分，从而形成光致抗蚀剂图案。

10.权利要求9的方法，其中光致抗蚀剂层的非曝光区域通过显影剂除去，形成光致抗蚀剂图案。