[发明专利]用于光刻的包含糖组分的组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：

(a)在基材上施加光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)一种或多种含有糖取代基的材料，其中一种或多种材料与一种或多种树脂基本上是不互溶的，和

(b)将光刻胶层在辐射中浸没曝光以活化光刻胶组合物。

2.根据权利要求1所述的方法，其中一种或多种含有糖取代基的材料包括一种或多种含有糖基基团的树脂。

3.根据权利要求1至3任一项所述的方法，其中的一种或多种含有糖取代基的材料进一步包括一个或多个吸电子部分。

4.根据权利要求1至3任一项所述的方法，其中的一种或多种含有糖取代基的材料包括一个或多个氟基团或氟取代的基团。

5.根据权利要求1至4任一项所述的方法，其中的一种或多种含有糖取代基的材料包括碱水溶液可溶性基团和/或一个或多个光致酸不稳定基团。

6.一种处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：

(a)在基材上施加光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)一种或多种含有一个或多个糖基基团的聚合物，其中一种或多种聚合物不同于一种或多种树脂，和

(b)将光刻胶层在辐射中浸没曝光以活化光刻胶组合物。

7.一种涂敷基材体系，所述体系包括：

基材，所述基材上有：

光刻胶组合物涂层，所述光刻胶组合物包括：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)一种或多种含糖取代基的材料。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，浸没光刻流体与所述光刻胶涂层的顶面相接触。

9.根据权利要求7或8的体系，进一步包括浸没式光刻曝光工具。

10.一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)一种或多种含有糖取代基的材料，其中一种或多种含有糖取代基的材料与一种或多种树脂基本上是不互溶的。

11.根据权利要求10所述的光刻胶组合物，其中一种或多种含有糖取代基的材料包括一种或多种含有糖取代基的三元共聚物、四元共聚物或五元共聚物。