[实用新型]镀膜玻璃实验线

说明书

技术领域

本实用新型涉及玻璃工业领域，尤其涉及一种镀膜玻璃实验线。

背景技术

在玻璃工业领域，镀膜玻璃实验线主要是利用真空磁控溅射的方法研究开发小面积、小产量的镀膜玻璃产品，其主要应用方式为在玻璃上根据产品工艺要求，镀制不同的金属膜或氧化物膜等，以改善其光学性能，将镀膜玻璃用于显示器、光学玻璃等产品上。目前，镀膜玻璃实验线主要采用单体磁控溅射镀膜机进行镀膜操作，其可实现AR薄膜、半透镜薄膜以及ITO薄膜等在玻璃衬底上的沉积。

发明人在实施本实用新型过程中，发现现有技术至少存在如下技术问题：

由于单体磁控溅射镀膜机只能对样品进行一次镀膜，所以样品在一次镀膜后需要首先转换到大气中，再在配备好下一次镀膜条件的单体磁控溅射镀膜机中进行下一次真空环境下的镀膜，因此，样品在真空与大气状态之间的转换频繁，转换时间长且效率低下，延长了研究开发新产品周期，造成了企业成本的增加。

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种可同时完成多样片制作或同时进行多层膜样品制作的镀膜玻璃实验线，以提高生产效率，减短制备周期，节约成本。

为解决上述技术问题，提供了一种镀膜玻璃实验线，包括镀膜室、设置于所述镀膜室中的溅射装置及与所述镀膜室相连的抽真空装置，所述溅射装置包括放置样品的旋转基片架、驱动所述旋转基片架旋转的动力源，以及至少两副设置于所述旋转基片架对应位置的孪生靶。

进一步地，所述旋转基片架呈筒状设置于所述镀膜室中部，所述孪生靶放置于所述旋转基片架外侧。

进一步地，所述抽真空装置包括依次级联的旋片泵、罗茨泵及分子泵，所述分子泵与所述镀膜室相连。

进一步地，所述孪生靶连接有中频电源进行供电。

进一步地，所述动力源为伺服马达。

上述技术方案至少具有如下有益效果：

通过提供一种镀膜玻璃实验线，其溅射装置采用了由动力源驱动旋转的旋转基片架以及用于镀膜溅射的至少两副孪生靶，因此，在旋转基片架旋转之时，采用至少两副孪生靶进行镀膜溅射，可同时完成多样片制作，或者同时进行多层膜样品制作，大大提高了生产效率，并减短了制备周期，节约了成本；另外，采用旋片泵、罗茨泵及分子泵组成的三级泵可大幅提高镀膜室内的真空度；采用中频电源对孪生靶进行供电，可提供稳定的功率，实现靶材的稳定溅射。

附图说明

图1是本实用新型实施例的镀膜玻璃实验线的结构示意图。

具体实施方式

参照图1及图2，本实用新型实施例提供了一种镀膜玻璃实验线，其主要包括镀膜室1、设置于镀膜室1中的溅射装置及与镀膜室1相连的抽真空装置，其中，溅射装置包括放置样品的旋转基片架2、驱动旋转基片架2旋转的动力源3，以及至少两副设置于旋转基片架2对应位置的孪生靶4。

旋转基片架2可呈筒状并设置于镀膜室1中部，孪生靶4可对应放置于旋转基片架2的外侧且成包围状设置，这样，在旋转基片架2旋转之时，采用至少两副孪生靶4进行镀膜溅射，可同时完成多样片制作，或者同时进行多层膜样品制作，大大提高了生产效率，并减短了制备周期，节约了成本。

为了进一步提高镀膜室的真空度，上述抽真空装置可由依次级联的旋片泵5、罗茨泵6及分子泵7组成，分子泵7与镀膜室1相连，一般采用这种抽真空装置，可实现镀膜室1内真空度达到10E-4Pa。

为了实现靶材的稳定溅射，孪生靶4可连接有中频电源进行供电。

作为一种实施方式，上述动力源3可以是伺服马达或电动机或液压动力机等。

以上所述是本实用新型的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。