[实用新型]一种用于真空镀膜机均匀抽气的抽气口及其接头有效
申请号: | 201120013824.4 | 申请日: | 2011-01-17 |
公开(公告)号: | CN201971892U | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | 李志荣;李志方;罗志明;李秋霞 | 申请(专利权)人: | 东莞市汇成真空科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/22 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人: | 周克佑 |
地址: | 523820 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 真空镀膜 均匀 气口 及其 接头 | ||
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜中的抽气技术,具体涉及一种用于真空镀膜机均匀抽气的抽气口及其接头。
背景技术
立式真空镀膜机的镀膜室与抽气系統连接处的抽气口,多开在镀室的后壁中部,呈圆形口或方形或近方形口,开口的高度或直径约占镀室总高度三分之一至四分之一左右。这种现在流行的设计源于适应抽气系统的标准化接口,比如以油扩散泵为主抽泵,在主泵与镀室之间必配高真空阀门,后者标准接口法兰就是圆形的;以渦轮分子泵为主抽泵,一般也采用标准的圆形管道法兰接口。有的镀膜设备采用两台或多台涡轮分子泵并联运行抽气,会采用自行设计的并联泵专用阀门,则会设计成方形或近方形抽气口。
无论在镀室后壁的抽气口设成圆形或方形或近方形,因为开口在镀室后壁中部,且其高度只占镀室总高度较小的比例,抽气时炉内各处的气体都会沿着气阻最小的路径汇集流向抽气口,自然气流轨迹不会均匀扫过镀室内各个部位。特别是进行反应镀膜时,供入反应气体(如氮、氧、乙炔)的导气管多数竖立装在炉前壁靠炉门附近,反应气体从导气管中沿不同高度开的小孔流向镀室,与镀室内蒸发的镀料或溅射靶溅出的原子、离子在待镀工件表面反应成化合物膜,例如,与钛镀料反应则分别生成金黄色的TiN、黑色的TiC以及蓝色的TiO2干涉膜。由于上述镀室内被抽气流流动轨迹有向后壁中部汇集趋向,室内上、中、下和前、后部,反应气体分布的浓度是不均匀的,特别是在上,中,下部的差异是不能靠工件公/自转运动方式来补偿,这样沿高度方向的膜层的成分与厚薄会不一致,膜层会出现色差。虽然调节导气管上的小孔的大小、分布可以改善一些膜层均匀性,但上述抽气口的形状和位置固有的不合理性,致使以调整布气来克服膜层的色差变得非常困难。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于真空镀膜机均匀抽气的抽气口及其接头,通过抽气口及其接头的设置,获得对镀膜机镀室的较均匀的抽气效果,提高镀膜质量。
本实用新型的技术问题可以通过以下方案解决:一种用于真空镀膜机均匀抽气的抽气口,所述抽气口开设在真空镀膜机镀室的室壁上,抽气口为长方形口,所述抽气口的长度等于镀室的高度,
与所述抽气口配合使用的用于真空镀膜机均匀抽气的抽气接头,所述抽气接头的一侧开有与所述抽气口大小形状完全一样的抽气接口,与抽气接口相对的另一侧开有出气口,所述抽气接头的抽气接口与所述抽气口对接后与真空镀膜机的镀室连通,所述抽气接头的出气口与抽气系统的抽气泵连通,所述抽气接头的抽气接口与出气口之间为用于气流均匀缓冲过渡的缓冲过渡段。
本实用新型所述缓冲过渡段包括用于气流由真空镀膜机的镀室进入抽气接头后均匀缓冲的等截面缓冲段和用于连接开口形状不同的抽气口与出气口的变截面过渡段,所述缓冲段与过渡段连通。
本实用新型所述缓冲段是由四块长方形围板相互组合连接围成的矩形方框。
本实用新型所述过渡段是由四块梯形围板相互组合连接围成的变截面框。
本实用新型所述过渡段是由呈交替状分布的四块三角形围板和至少四块弧形围板相互组合连接围成的由矩形口变成圆形口的变截面框体。
相比于现有技术,本实用新型具有以下的有益效果:
1、镀室内气体沿镀室高度受到较均匀的抽力,被抽气体较均匀地流进抽气口,不会在某处产生明显的气流汇集效应,扩展了沿镀室高度方向气流流动均匀性,从而扩展了均匀镀膜区的高度,一般可扩展15-20%。
2、可在不改变原有镀室的供气方式情况下减少镀彩色膜的色差,可以更容易地调整布气而得到更均匀的颜色,如镀TiC黑色膜很容易实现色差值L*=+/-1;a*=+/-1;b*=+/-1。
附图说明
图1是本实用新型实施例1的结构立体图;
图2是图1的主视图;
图3是图1的俯视图;
图4是本实用新型实施例2的结构立体图;
图5是图4的主视图;
图6是图4的俯视图。
具体实施方式
实施例1
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