[实用新型]一种矩形平面磁控溅射阴极无效

专利信息
申请号: 201120023576.1 申请日: 2011-01-25
公开(公告)号: CN201981253U 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 苏宜龙;赵子东 申请(专利权)人: 上海子创镀膜技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 上海衡方知识产权代理有限公司 31234 代理人: 王福新
地址: 201617 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 矩形 平面 磁控溅射 阴极
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及到一种溅射真空镀膜装置,尤其涉及到一种平面溅射镀膜阴极装置。

背景技术

溅射阴极作为真空镀膜设备的核心部件,目前广泛应用的矩形平面溅射阴极,其在阴极周围设有屏蔽罩,屏蔽罩下端设有阳极框,其中,阳极框、屏蔽罩,与电源正极和地线相连,并与阴极体保持一定距离,零电位的屏蔽罩截获非靶材零件发射的电子,避免氩气电离产生辉光放电,防止靶座等零部件溅射,有效保证镀膜质量。但根据“巴邢定律”,在一定压强下,P×D值小于巴邢曲线的谷底时,不会产生辉光放电,在适合溅射的工艺压强下,这个D值约等于1.5-2mm,而在大面积真空镀膜设备中,靶材长度大都在2500mm以上,在实际加工和装配中要想保证这个尺寸是很困难的,所以很多大型的平面磁控溅射阴极的屏蔽罩和阴极体之间,都有放电的现象,阳极框也常常被溅射,这就严重影响了镀膜质量。尽管有人针对这种情况提出了在外框内侧或外侧加装导磁板,但带有阳极框的溅射装置,经长时间使用,其阳极处溅射产生的微粒沉积到一定程度会出现局部放电,最终溅射阴极装置发生短路,而无法正常工作,另外,其还存在如下缺点:

1、阳极框在长期持续溅射的高温环境下,发生严重变形;

2、阳极框需要经常拆卸清除污垢,减短平面溅射阴极使用寿命,影响生产,增加成本。

实用新型内容

针对上述设有阳极框的溅射阴极的缺点,本实用新型设计出一种新型的矩形平面磁控溅射阴极。

为了达到上述的目的,本实用新型采用的技术方案是提供一种矩形平面磁控溅射阴极,包括阴极组件、设置阴极组件上端的支承座、支撑座上端的阴极盖板,其中,所述支承座分为支撑座底板,支撑座中板,支撑座顶板,所述支撑座中板为绝缘体。

根据上述的溅射阴极,其中,在支撑座中板两侧还设置有支撑座防护罩。

根据上述的溅射阴极,其中,在阴极组件的外围还设有屏蔽罩,所述屏蔽罩通过螺栓与支撑座底板相连。

根据上述的溅射阴极,其中,所述支撑座顶板与阴极盖板通过螺栓相连。

根据上述的溅射阴极,其中,所述支撑座中板通过螺栓与支撑座底板、支撑座顶板相连,所述螺栓为T型槽专用螺栓。

根据上述的溅射阴极,其中,所述支撑座中板的材质为聚甲醛或聚四氟乙烯塑料。

根据上述的溅射阴极,其中,所述防护罩的材质为聚四氟乙烯或PEEK塑料。

本实用新型的技术效果一是取消了阳极框,简化了结构,降低成本,减小加工、装配、维修和维护的难度。二是取消屏蔽罩接地,防止了屏蔽罩与阴极体放电,有效解决防护罩与阴极导通时的短路,造成靶材不能溅射,停止生产的缺点,从而增长了大型矩形平面溅射阴极的使用周期,减少了其维护次数,节约成本。三是结构简单,便于装配和拆卸。

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步说明。

附图说明

图1是本实用新型的结构剖面示意图;

1-屏蔽罩,2-阴极组件,3-支承座下底板,4-支承座中板,5-支承座防护罩、6-支承座顶板,7-阴极盖板。

具体实施方式

本发明保护的是一种矩形平面磁控溅射阴极,只要是本领域技术人员了解本发明实施例,不经过创造性的劳动,仅是同等技术的替换,都属于本发明的保护范围。

如图1所示,屏蔽罩1设置在阴极组件2的外围,支撑座底板3用螺栓与阴极组件2外围的屏蔽罩1相连。支承座中板4通过T型槽专用螺栓分别与支承座下底板3和上顶板6连接,同时上顶板6与阴极盖板7采用螺栓连接。支承座中板4的材质采用聚甲醛或聚四氟乙烯,从而使得支撑座下底板3和支撑座上顶板6相互绝缘,以此保证阴极组件2和阴极盖板7相互绝缘。为防止中板4表面在长期的溅射环境中被镀上导电膜,导致绝缘失效,所以在支撑座中板4外围设置有支承座防护罩5,所述支承座防护罩5下端通过螺栓固定在支撑座底板上,支承座防护罩5的材质宜采用聚四氟乙烯或PEEK,支承座防护罩5与支承座中板4、支承座底板3组成半封闭的空腔,这种结构大大提高了绝缘的可靠性,使支承座防护罩5成为免维护部件,并且对支撑座中板4提供有效保护。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海子创镀膜技术有限公司,未经上海子创镀膜技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120023576.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top