[实用新型]抛光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种研磨产品的抛光装置，尤其是一种机械球面密封件的抛光装置。

背景技术

现有的产品的抛光方式为一组研磨产品放置在研磨盘上，共用一个压板,在游星轮内旋转研磨。如世界著名的研磨机生产厂家瑞士St?hli公司编制的《The Technique of Lapping》一书以及其生产的研磨机都是采取此种研磨方式。

但此种研磨方式不但影响了产品在游星轮里的自由运动, 而且对产品高度的一致性有很高的要求。特别是采用此种研磨方式研磨球面密封件时，很难形成圆环形光带，而且研磨面易产生划痕，一次合格率极低。

发明内容

本实用新型的目的在于：针对上述存在的问题，提供一种研磨质量好，一次合格率高的抛光装置。

本实用新型采用的技术方案包括研磨盘，游星轮，研磨盘上还设置至少两个固定套筒，每个套筒内放置一个抛光产品，如密封环，特别是硬质合金密封环。套筒的尺寸与产品的尺寸相适配；产品上部设置压板。采用此种抛光装置进行产品研磨，游星轮带动产品做行星运动，同时产品在套筒里做自转运动。每个研磨产品之间均为独立旋转运动，产品在游星轮里运动时不受其它产品运动的影响，能够自由运动。而且这种抛光装置对产品高度的一致性也没有要求。整个运动系统平稳、自由，研磨盘的表面几何形状易传递给产品，大大提高研磨产品表面质量和研磨一次合格率。

更进一步的改进是，所述研磨盘为球形弧面研磨盘。由于本实用新型装置的研磨盘的表面几何形状易传递给产品，通过改变研磨盘的研磨表面，即可在抛光产品的研磨面上研磨出相对应的形状。研磨盘设置为球形弧面研磨盘，即可在抛光产品的研磨面上研磨出内凹的球形弧面。

更进一步的改进是，所述压板上设置压块。由于抛光产品存在尺寸差异，研磨量的差异，通过在压板上添加重量不等的压块，可以实现抛光装置的通用性。

附图说明

本实用新型将通过实施例并参照附图的方式进行说明，其中：

图1是本实用新型实施例的结构示意图。

图2是图1的A-A剖视图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1、2所示的抛光装置，其包括研磨盘6，游星轮5，研磨盘上放置有3个固定套筒1（根据研磨产品的数量和研磨盘的大小，套筒的数量可以根据需要设置多个），每个套筒内放置一个硬质合金密封环2，密封环为外径35mm，内径为23mm，高度为6.5mm，套筒的尺寸与密封环的尺寸相适配。为了在密封环的研磨面上研磨出凹球面，研磨盘设计为与密封环的内凹球面半径相适配的半径为R的球形弧面。密封环上部设置压板3。根据研磨需要，压板上还可以设置压块4，通过调整压块的重量来调节对密封环的研磨压力，实现较为理想的抛光效果。

采用传统的压板研磨产品，平面度的一次合格率仅为30%左右，采用改进后的抛光装置研磨产品，平面度一次合格率能达到95%，大大提高了一次合格率。实现了球面密封件批量化生产。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。