[实用新型]喷雾狭缝式的基板清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种基板清洗装置，尤其涉及一种将双流体均匀并全面性的雾化，以提升基板清洁效率的喷雾式的基板清洗装置。 

背景技术

薄膜晶体管(液晶显示器)、等离子显示面板及电致发光显示器等平板显示器上的基板是需要高精密加工的一种部件，在基板进行制程之前或处理后须进行该清洗制程，清洗制程对基板表面进行清洁，例如由药液处理制程、冲洗(rinse)制程以及干燥制程组成，在清洗制程中，为了清除颗粒及污染物而利用清洗液对基板进行处理时，为了提高清洗能力，提出了在清洗液中混合清洁的干燥空气(Clean dry air)而生成双流体，并将生成的双流体放大之后以泡沫(bubble)形态冲击至基板表面的基板清洗用双流体喷嘴(以下称为双流体喷嘴)。 

请参考中国台湾的公开号为200906210的发明专利的基板清洗用双流体喷嘴，参阅图1，为基板清洗用双流体喷嘴的剖面示意图，其包含有用于分别收容互不相同的流体的第一收容部100及第二收容部200；用于移送收容于该第一收容部100的第一流体的第一通道110，在其端部形成有喷射该第一流体的第一喷射口111；用于移送收容于该第二收容部200的第二流体的第二通道210，在其端部形成有喷射该第二流体的第二喷射口211；双流体排出部400，以用于排出由该第一喷射口111及第二喷射口211喷射的流体相混合而生成的双流体；以及形成于该第二喷射口211的前端部的引导部212，以用于将由该第二喷射口211喷射的该第二流体的喷射方向引导至该第一喷射口111。 

然而现有技术的缺点在于液体及空气混合时无法一直产生均匀的双流体，且第一喷射口及第二喷射口之间具有一间距，使部分还未雾化的液体直接掉落至基板上，因此混合后双流体的大小无法充分地被微粒化，导致清洗 效率降低，影响后续制程的处理，因此需要一种雾化效果佳以提升基板清洁效率的一种喷雾式的基板清洗装置。 

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种喷雾狭缝式的基板清洗装置，其用以产生雾化形态的二相流体，并将雾化形态的二相流体喷洒至欲清洗的基板上，以提升基板的洁净度，进而帮助于后续制程处理。 

为达上述目的，本实用新型的具体技术手段包含有一雾化装置，该雾化装置之内至少具有一第一流体腔室、一第二流体腔室、一分流室及一雾化作用室，该第一流体腔室与该第二流体腔室为分隔设置且互不连通，该第一流体腔室及第二流体腔室都设于该雾化作用室之上，该第一流体腔室具有至少一个气体注入部，该至少一个气体注入部可接设一气体供给管，该第一流体腔室与该雾化作用室之间设置有一第一流通道，该第二流体腔室具有至少一个液体注入部，该至少一个液体注入部可接设一液体供给管，该第二流体腔室与该分流室之间设有一第二流通道，其中该分流室与该雾化作用室之间设置有多个分流孔，该雾化作用室的底端则连通于一排出通道，该排出通道的底端出口为一喷出口。 

本实用新型可有效解决现有技术的缺点，使喷射均匀度更为统一，进而提升基板的洁净度，以提升产品优良率。 

附图说明

图1为现有技术的基板清洗用双流体喷嘴的剖面示意图。 

图2为本实用新型的喷雾狭缝式的基板清洗装置的结构示意图。 

具体实施方式

以下配合说明书附图及组件符号对本实用新型的实施方式做更详细的说明，以使本技术领域的技术人员在研读本说明书后能据以实施。 

参阅图2，为本实用新型的喷雾狭缝式的基板清洗装置的结构示意图。本实用新型包含有一雾化装置1，该雾化装置1具有一第一流体腔室11、一第二流体腔室13、一分流室15及一雾化作用室17，该第一流体 腔室11与该第二流体腔室13为分隔设置且不连通，第一流体腔室11及第二流体腔室13都设于该雾化作用室17的上方，因此第一流体腔室11及第二流体腔室13之内的流体可下传至该雾化作用室17之中。 

该第一流体腔室11具有至少一个气体注入部111，该气体注入部111可接设一气体供给管(图未示出)，该第一流体腔室11与该雾化作用室17之间具有一第一流通道113，其中该第一流体腔室11与该雾化作用室17之间可进一步设置至少一中置室115，该中置室115与该第一流通道113相连通，该中置室115供气流回旋其中，以增加气流的压力及流量。