[实用新型]一种用于等温气相外延工艺的晶体生长容器

权利要求书

1.一种用于等温气相外延工艺的晶体生长容器，它由石英塞(1)、石英盒(2)和石英环(3)组成，其特征在于：

所述的石英塞(1)的上部分是一个圆锥体，下部分是一个带锥度圆柱体，圆柱体与圆锥体相连处的上部直径大于其下部直径，圆柱体的锥度为4-6°，下部分带锥度圆柱体的表面磨砂处理，石英塞(1)中间是空的，其石英玻璃的壁厚为1-2mm；

所述的石英盒(2)为圆柱体杯状结构，杯的内部呈与石英塞(1)下部分同锥度的锥形圆柱体形状且杯口的直径比杯底的直径大，杯口部分磨砂处理，石英盒(2)的内径比所需生长晶体直径大2mm，高度为40～60mm，壁厚1-2mm；

所述的石英环(3)是厚度为5mm的圆环，环的外径与所需生长晶体的直径相同，环的内径比环的外径小2mm；

石英盒(2)的底部放置晶体生长源材料(4)，石英环(3)放置在源材料(4)的上方，晶体生长用衬底(5)放置在石英环(3)上，如果有多片衬底，则用石英环将每片衬底相互隔开后叠加放入石英盒(2)中，石英塞(1)将石英盒(2)口塞住密闭。

2.根据权利要求1所述的一种用于等温气相外延工艺的晶体生长容器，其特征在于：所述的石英塞(1)、石英盒(2)和石英环(3)均采用99.99999％的高纯石英材料制作。