[实用新型]用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器无效

专利信息
申请号: 201120073909.1 申请日: 2011-03-18
公开(公告)号: CN202054619U 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 严大洲;毋克力;肖荣晖;汤传斌;谢正和;杜俊平;谢冬晖;汪绍芬;郭富东 申请(专利权)人: 中国恩菲工程技术有限公司
主分类号: C01B33/12 分类号: C01B33/12;C01B7/01
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋合成
地址: 100038*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 多晶 副产物 氯化 处理 脱酸
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种脱酸器,尤其是涉及一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器。

背景技术

近年来,随着硅太阳能电池的发展,多晶硅市场得以迅猛增长。目前国际上采用的多晶硅制备方法均为改良的西门子法,即采用三氯氢硅氢化还原,其副产物主要是四氯化硅,生产1吨多晶硅所产生的副产物四氯化硅大约为12~18吨,因此如何处理副产物四氯化硅已经成为多晶硅工业发展的一大瓶颈。

实用新型内容

本实用新型的一个目的在于提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,该脱酸器可以用在用多晶硅副产物四氯化硅生产二氧化硅中,用于分离与氯化氢分离后的二氧化硅表面附着的氯化氢,从而得到二氧化硅产品,该脱酸器脱酸效果好,结构简单,成本低。

根据本实用新型的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,包括:脱酸器本体,所述脱酸器本体内限定有脱酸腔,所述脱酸器本体的上部设有尾气出口和脱酸器出料口,所述脱酸器本体的下部设有脱酸蒸汽入口和脱酸器进料口;和加热管,所述电加热管设置在所述脱酸器本体上且伸入所述脱酸腔内。

根据本实用新型的脱酸器用在用多晶硅副产物四氯化硅生产二氧化硅中,用于分离与氯化氢分离后的二氧化硅表面附着的氯化氢,从而得到二氧化硅产品,脱去的氯化氢可以用于制酸,该脱酸器脱酸效果好,结构简单,成本低。

另外,根据本实用新型上述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器还可以具有如下附加的技术特征:

所述脱酸器本体包括:扩大段,所述扩大段的下部为截锥形,所述尾气出口形成在所述扩大段的顶部且所述脱酸器出料口形成在所述扩大段下部的斜面上;炉身,所述炉身的上端与所述扩大段的下端相连,其中所述加热管安装在所述炉身上;和炉底,所述炉底的上端与所述炉身相连且所述脱酸蒸汽入口和所述脱酸器进料口分别形成在所述炉底的侧面上。

所述炉底的底端设有排渣口。

所述炉身的侧面上分别设有吹扫口和测温口,所述吹扫口邻近所述炉身的上端和下端。

所述扩大段的侧面设有高于所述脱酸器出料口的料位检测口。

所述扩大段的侧面上设有平衡口。

所述扩大段的侧面上还设有观察口。

所述扩大段、炉身和炉底为回转体且它们的径向尺寸依次减小。

所述炉底包括与所述炉身相连的圆筒段和与所述圆筒段相连的锥形段。

所述加热管分布在所述炉身的整个表面上。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:

图1是具有根据本实用新型实施例的脱酸器的多晶硅副产物四氯化硅处理设备的框图;

图2是上述多晶硅副产物四氯化硅处理设备的反应器的示意图;

图3是图2所示反应器的分布器的示意图;

图4是图3所示分布器的局部示意图,其中示出了叶片的排列方式;

图5是上述多晶硅副产物四氯化硅处理设备的收集冷却器的示意图;

图6是图5所示收集冷却器的内壳的示意图;

图7是图5所示收集冷却器的旋体的示意图;

图8是图5所示收集冷却器的外壳的示意图;

图9是上述多晶硅副产物四氯化硅处理设备的聚集器的示意图;

图10是图9所示聚集器的俯视示意图;

图11是图9所示聚集器的聚集管的示意图;

图12是根据本实用新型实施例的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器的示意图;

图13是图12所示脱酸器的扩大段的示意图;

图14是图12所示脱酸器的炉身的示意图;和

图15是上述多晶硅副产物四氯化硅处理设备的操作流程图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。

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