[实用新型]一种彩色滤光片基板、液晶面板及显示装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种彩色滤光片基板、液晶面板及显示装置。

背景技术

近年来，平板显示技术发展迅速，边缘场翻转模式和共面场翻转模式已成为液晶显示的主流技术。由于公共电极和像素电极都在阵列array基板，这两种模式的CF(Color Filter，彩色滤光膜)基板上不需要ITO(Indium-Tin Oxide，氧化铟锡)电极。这使得液晶器件在制造工艺过程中容易受到静电攻击。对此，业界采用了在CF基板的背面沉积一层ITO的方法，防止制造过程所产生的静电对液晶器件造成的破坏。

虽然ITO是一种透明导电薄膜，但是其对可见光有一定的吸收，而且ITO和玻璃基板的界面也会存在一定的反射光损失。ITO和玻璃基板的折射率相差越大，反射光损失越大。由此，降低了液晶器件的透过率。

实用新型内容

本实用新型实施例提供的一种彩色滤光片基板、液晶面板及显示装置，可以避免静电攻击，并具有较好的透过率。

本实用新型实施例提供的一种彩色滤光片，包括：

原始基板；

附着在所述原始基板第一表面的、被蚀刻后的导电膜；

附着在所述原始基板的第二表面的黑色矩阵；

其中，所述导电膜被刻蚀的图形区域，满足至少部分被刻蚀的图形区域垂直映射到所述第二表面的对应图形区域位于非黑色矩阵在第二表面的图形区域中。

所述原始基板为玻璃基板。

较佳的，所述导电膜为氧化铟锡ITO。

较佳的，所述氧化铟锡ITO的厚度为40纳米。

较佳的，所述导电膜被刻蚀的图形区域垂直映射到所述第二表面的对应图形区域，同时位于黑色矩阵和非黑色矩阵在第二表面的图形区域中。

较佳的，所述导电膜的图形区域与所述黑色矩阵在第二表面的图形区域镜面对称。

较佳的，所述黑色矩阵呈网格状时，所述导电膜呈网格状且各个网格的位置与所述黑色矩阵各个网格的位置相对应。

较佳的，彩色滤光片基板，还包括：位于所述黑色矩阵网格中的颜色像素块。

本实用新型实施例还提供了一种液晶面板，包括：彩色滤光片基板和位于所述彩色滤光片基板下方的阵列基板；其中

彩色滤光片基板，包括：原始基板；附着在所述原始基板第一表面的、被蚀刻后的导电膜；附着在所述原始基板的第二表面的黑色矩阵；

其中，所述导电膜被刻蚀的图形区域，满足至少部分被刻蚀的图形区域垂直映射到所述第二表面的对应图形区域位于非黑色矩阵在第二表面的图形区域中。

本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括所述液晶面板。

由于本实用新型实施例提供的彩色滤光片基板、液晶面板及显示装置中导电膜被刻蚀的图形区域至少部分位于非黑色矩阵的图形区域中，使得黑色矩阵网格空隙处的像素区域较少的受导电膜吸收可见光以及界面反射损耗的影响，具有较好的透过率。同时也不影响导电膜的静电保护作用。

附图说明

图1为本实用新型实施例中彩色滤光片基板的结构示意图；

图2a-图2e为本实用新型实施例中制作彩色滤光片基板流程示意图；

图3a-图3e为本实用新型另一实施例中制作彩色滤光片基板流程示意图；

具体实施方式

下面结合说明书附图对本实用新型实施例作进一步详细描述。

如图1所示，为本实用新型实施例提供的彩色滤光片基板，其具体包括：

原始基板1；附着在原始基板1的第一表面的、被蚀刻后的导电膜2；附着在原始基板1的第二表面的黑色矩阵3；

其中，导电膜2被刻蚀的图形区域，满足至少部分被刻蚀的图形区域垂直映射到第二表面的对应图形区域位于非黑色矩阵在第二表面的图形区域中。

较佳的，该原始基板1为玻璃基板；

较佳的，导电膜2为氧化铟锡ITO，其厚度可以为40纳米；

较佳的，导电膜2被刻蚀的图形区域垂直映射到第二表面的对应图形区域，同时位于黑色矩阵3和非黑色矩阵在第二表面的图形区域中；

较佳的，黑色矩阵3呈网格状时，导电膜2的图形区域与黑色矩阵3在第二表面的图形区域镜面对称，例如，两者均为网格状，该网格空隙的形状可以为方形、圆形或其他任意形状。

较佳的，黑色矩阵3呈网格状时，所述导电膜2呈网格状且各个网格的位置与所述黑色矩阵各个网格的位置相对应。也就是，导电膜2垂直映射到第二表面的图形区域位于黑色矩阵3在第二表面的图形区域中。