[实用新型]一种施釉装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种施釉装置。

背景技术

目前，现有技术中应用于陶瓷生产中的施釉于陶瓷坯体的方法多种多样，最基本的是“浸釉”，将陶瓷坯体浸入釉浆中片刻后取出，利用坯体的吸水性、使釉浆均匀地附着于坯体表面。釉层厚度由坯体的吸水率、釉浆浓度和浸入时间决定；荡釉法，将釉浆浇入坯体内，用手缓慢摇荡，使得釉浆分在坯体内表面，这种方法适宜器型较深的产品；喷釉法，采用喷釉器将釉料雾化喷到坯体表面，此种施釉方法适合于大型产品及造型复杂、或薄胎等需要多次施釉的产品，可以多次喷釉。对于杯碗类制品施外釉，传统方法是采用浸釉法，手持坯体浸入釉浆中，待坯体表层挂釉，然后取出，但是由于釉浆是静止盛放于釉桶内，容易沉淀，影响施釉效果。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于克服现有技术中采用浸釉法时，釉料是静止的，容易沉淀的缺点，提供一种能防止釉料沉淀的施釉装置

本实用新型采用如下技术方案：

一种施釉装置，包括釉料桶和输入端与釉料桶相通的釉泵，其特征在于：还包括有施釉桶和供釉管，该供釉管一端与所述施釉桶相连通，另一端与所述釉泵输出端相连来实现供釉，施釉桶还设有将釉料送至釉料桶的排釉管。

进一步地，所述施釉桶通过一固定架固定于略高于所述釉料桶位置。

进一步地，所述供釉管所述施釉桶底部中央，且安装有一向上的喷釉管，该喷釉管顶部低于所述施釉桶顶部边缘。

进一步地，所述排釉管设置于所述施釉桶侧壁略低于顶部边缘位置。

由上述对本实用新型的描述可知，与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型通过采用釉泵将釉料通过供釉管送至施釉桶侧壁，使得釉料以一定角度喷向施釉桶，从而在施釉桶内形成流动的液体，在整个施釉过程中保持流动，而不会沉淀；本实用新型还用于对杯碗进行施内釉，将供釉管设置于施釉桶底部中央且安装一向上的喷釉管，即可对杯碗内壁进行施釉，侧壁设置排釉管用于循环利用釉料。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图；

图2为本实用新型施内釉的立体结构示意图。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。

参照图1，一种施釉装置，包括釉料桶1和输入端与釉料桶1相通的釉泵2，还包括有施釉桶3和供釉管4，施釉桶3通过一固定架5固定于略高于釉料桶3位置。供釉管4一端于施釉桶3侧壁的小孔13相连接，另一端与釉泵2输出端相连来实现供釉，施釉桶3还设有将釉料送至釉料桶1的排釉管6，该排釉管6设置于施釉桶1侧壁略低于顶部边缘位置。

参照图2，本实用新型还可作为施内釉装置，将图1中的供釉管4设置于施釉桶3底部中央同时安装一向上的喷釉管7，该喷釉管7顶部低于施釉桶3顶部边缘。将图1中的侧壁小孔13作为排釉孔用于连接排釉管6，将釉料排至釉料桶1。

上述仅为本实用新型的一个具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。