[实用新型]真空表面处理装置

权利要求书

1.一种真空表面处理装置，其特征在于包括一第一反应容器(1)，该第一反应容器(1)的顶部配设有第一容器盖(11)，第一容器盖(11)上设有一用于显示第一反应容器(1)的第一容腔(14)内的压力的第一压力表(111)，在第一反应容器(1)的上侧部设有一第一进气管(12)和一第一抽真空管(13)，第一进气管(12)上设有一第一电磁阀(121)，而第一抽真空管(13)上配有一第二电磁阀(131)，并且在第一反应容器(1)的底部设有一用于将所述第一容腔(14)内的液体排出的第一排液管(15)，该第一排液管(15)上设有一第一阀门(151)；一第二反应容器(2)，该第二反应容器(2)的顶部配设有第二容器盖(21)，第二容器盖(21)上设有一用于显示第二反应容器(2)的第二容腔(24)内的压力的第二压力表(211)，在第二反应容器(2)的上侧部设有一第二进气管(22)和一第二抽真空管(23)，第二进气管(22)上设有一第三电磁阀(221)，而第二抽真空管(23)上配设有一第四电磁阀(231)，并且在第二反应容器(2)的底部设有一用于将所述第二容腔(24)内的液体排出的第二排液管(25)，该第二排液管(25)上设有第二阀门(251)；一载物容器工作机构(3)，设在所述第一反应容器(1)的底部并且探入到所述的第一容腔(14)内；一连接管(4)，该连接管(4)的一端与第一反应容器(1)的下部连接，另一端与第二反应容器(2)的下部连接，而中部配设有一第五电磁阀(41)。

2.根据权利要求1所述的真空表面处理装置，其特征在于所述的第一反应容器(1)的底部设有一组第一支承脚(16)，藉以该组第一支承脚(16)将第一反应容器(1)处于腾空状态；所述的第二反应容器(2)的底部设有一组第二支承脚(26)，藉由该组第二支承脚(26)将第二反应容器(2)处于腾空状态。

3.根据权利要求1或2所述的真空表面处理装置，其特征在于所述的第一、第二反应容器(1、2)的彼此的容积相同或不相同。

4.根据权利要求1所述的真空表面处理装置，其特征在于所述的载物容器工作机构(3)包括电机(31)、磁力耦合器(32)、连接器(33)和载物容器(34)，磁力耦合器(32)通过轴承座(321)设在所述第一反应容器(1)的底部的中央部位；第一电机(31)与磁力耦合器(32)的下端传动连接，连接器(33)在所述第一容腔(14)内与磁力耦合器(32)的上端传动连接，该连接器(33)具有一载物容器配接轴(331)，载物容器(34)的底部的中央构成有一配接帽(341)，该配接帽(341)与载物容器配接轴(331)相配合。

5.根据权利要求4所述的真空表面处理装置，其特征在于所述的连接器(33)朝向所述载物容器(34)的一侧构成有复数个第一配合部(332)，而所述配接帽(341)朝向连接器(33)的一侧构成有数量与第一配合部(332)相等的第二配合部(3412)，第一、第二配合部(332、3412)彼此配合。

6.根据权利要求5所述的真空表面处理装置，其特征在于当所述的第一配合部(332)为榫时，则第二配合部(3412)为卯；而当所述的第一配合部(332)为卯时，则第二配合部(34112)为榫。

7.根据权利要求4所述的真空表面处理装置，其特征在于所述的载物容器(34)是镂空的。

8.根据权利要求4所述的真空表面处理装置，其特征在于所述的配接帽(341)的中央构成有一配接轴腔(3411)，该配接轴腔(3411)与所述的载物容器配接轴(331)相配合。

9.根据权利要求4所述的真空表面处理装置，其特征在于所述的电机(31)为三相异步电动机。

10.根据权利要求1或5或8所述的真空表面处理装置，其特征在于所述的配接帽(341)的底部开设有滤液孔(3413)。