[实用新型]清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置

权利要求书

1.一种清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于它包括工作室、气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统和控制系统，其中工作室包括炉壁、隔热层、加热器、引入电极；隔热层与炉壁固定连接，引入电极由炉壁外穿过炉壁与隔热层并与加热器固定连接；气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别与工作室相连；控制系统与气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别相连。

2.根据权利要求1所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述工作室内的炉壁为双层不锈钢板结构，夹层之间有螺旋分水环。

3.根据权利要求1所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述工作室内的加热器为鼠笼型。

4.根据权利要求1所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述工作室内的隔热层主要由石墨毡、石墨筒和不锈钢板组成。

5.根据权利要求1所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述工作室内的隔热层通过支架与炉壁固定连接。

6.根据权利要求1至5任一项所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述气源系统包括：质量流量计、气动阀、管道。

7.根据权利要求1至5任一项所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述真空系统包括：真空泵、冷阱、阀门和真空计。

8.根据权利要求1至5任一项所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述加热系统由一个功率调整板、一个调压器及加热器和热电偶组成。

9.根据权利要求1至5任一项所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述冷却系统由管路系统、循环风系统组成。

10.根据权利要求1至5任一项所述的清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于所述控制系统主要包括温度控制单元、气源系统控制单元、真空系统控制单元。