[实用新型]气动平台有效
申请号: | 201120144762.0 | 申请日: | 2011-05-10 |
公开(公告)号: | CN202079688U | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 陈盛淇 | 申请(专利权)人: | 陈盛淇 |
主分类号: | B28D7/00 | 分类号: | B28D7/00 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 何为;李宇 |
地址: | 中国台湾新竹县竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气动 平台 | ||
技术领域
本实用新型为一种用于装载物品进行加工的平台,尤指一种利用气体做为润滑介质的气动平台。
背景技术
一般在切割晶圆或是LED等高科技半导体材料时,皆需经由切割等手续才会形成可利用的产品。在切割进行时,利用一平台来带动这些半导体材料进行前后左右的移动,而可配合刀具落下的位置来完成切割工序。
其中,平台位移精确度将直接影响晶圆被切割后的状况,若有任何偏斜,将导致切割后的成品无法使用,形成损失。
为使平台能够移动顺畅,常会于相对活动的组件之间设置润滑油或是轴承等物,使得平台能够平稳地滑动至指定的位置。然而,润滑油会有消耗或漏出等问题,在经过一段时间后,由于已无法提供润滑效果,故将使组件彼此摩擦,而发生抖动或是位移不精确等问题,而轴承亦为机械式的辅助传动,仍然会有消耗毁损的问题,进而导致晶圆的毁损。
再者,科技产品的体积愈来愈小,功能越来越多,倘若晶圆在切割过程中,稍有闪失,将会造成庞大的损失,因此,只要平台无法平稳精确地位移,即无法适应精度要求逐渐提升的切割。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是,针对现有技术不足,提供一种气动平台,其利用气体阻隔需相对移动的组件,避免摩擦的产生,可增进平台移动的精确度。
为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种气动平台,包括一第一固定座、一第一活动座、一第二固定座、一第二活动座与至少一驱动装置,该第一活动座置于该第一固定座上方,且该第一活动座内设有一第一管道,该第一管道设有至少一第一进气孔与数个第一出气孔,该些第一出气孔朝向该第一固定座;该第二固定座设置于该第一活动座上;该第二活动座置于该第二固定座上方,该第二活动座内设有一第二管道,该第二管道设有至少一第二进气孔与数个第二出气孔,该些第二出气孔朝向该第二固定座;该驱动装置连接于该第一活动座与该第二活动座,用以提供该第一活动座与该第二活动座移动的动力;当气体自该第一进气孔与该第二进气孔进入后,将由该第一出气孔与该第二出气孔排出,使得该第一固定座与该第一活动座之间产生一第一间隙,该第二固定座与该第二活动座之间产生一第二间隙。当该第一间隙与该第二间隙内具有所充入的气体时,将可使该第一固定座与该第一活动座有间隔分离,该第二固定座与该第二活动座有间隔分离。
该第一活动座与该第二活动座相互垂直。
该第一固定座包括一第一轨道,该第一活动座插入该第一轨道,且部分该些第一出气孔面向于该第一轨道的内侧。
该第二活动座包括一第二轨道,且该第二活动座藉由该第一轨道插入该第二固定座;又,该第二管道延伸至该第二轨道内,且部分第二出气孔设置于该第二轨道内侧。
由于本实用新型利用气体做为组件之间的介质,使得各相对移动的组件在移动时,不会直接接触而产生擦痕等问题。并且,气体阻力极小,对于系统在控制位移距离上更加精确,故可因应更高精度的需求。
又,本实用新型可进一步使该第一活动座与该第二活动座相互垂直,而具有不同方向的移动。
又,本实用新型利用一第一轨道与一第二轨道的设计,使得该第一活动座与该第二活动座的移动更加稳定。
以下兹举一实施例,配合图式、图号,将本实用新型的构成内容及其所达成的功效详细说明如后。
附图说明
图1为本实用新型实施例的立体图;
图2为本实用新型实施例的另一视角的立体图;
图3为本实用新型实施例的第一活动座的透视图;
图4为本实用新型实施例的第一固定座与第一活动座的剖面示意图;
图5为本实用新型实施例的第二活动座结合于第一固定座的立体透视图。
标号说明:
10……第一固定座;
11……第一轨道;
20……第一活动座;
21……第一管道;
211……第一进气孔;
212……第一出气孔;
30……第二固定座;
40……第二活动座;
41……第二管道;
411……第二进气孔;
412……第二出气孔;
42……第二轨道。
具体实施方式
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