[实用新型]延时导流吸附塔无效
申请号: | 201120151011.1 | 申请日: | 2011-05-11 |
公开(公告)号: | CN202061520U | 公开(公告)日: | 2011-12-07 |
发明(设计)人: | 王开锋 | 申请(专利权)人: | 广东太安伊侨气体设备有限公司 |
主分类号: | B01D53/047 | 分类号: | B01D53/047 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 523750 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 延时 导流 吸附 | ||
技术领域:
本实用新型涉及(PSA)变压吸附制氧、制氮设备、变压吸附空气干燥器设备的技术领域,特指延时导流吸附塔。
背景技术:
目前,市场上的吸附剂有很多种。利用各种不同的吸附剂在一定的温度变化范围内,具有对不同气体的组织成分吸附容量不同的特性,而所有吸附剂的吸附容量都是随气体压力的升高而增大,随气体压力的降低而减少的特点;将吸附剂紧紧的填充在一个封闭能承压的容器内,制造出能选择性吸附气体中组分的床层,叫吸附床。在压力的作用下,当气体流经吸附床时,容易被吸附的组分被吸附剂吸附,不易吸附的组分从床层中集结流出。即为选择后需要保留的气体,当吸附接近饱和时,快速降低吸附床层的压力,使被吸附的组分脱附出来,从床层的另一端排出。通常采用双塔交替工作,一塔处在吸附状态时,另一塔进行脱附再生。从而实现了气体的分离与净化。该工艺被称为变压吸附。即Pressure Swing Abaovption缩写为PSA。
变压吸附工艺的要求是压力变化快,循环周期短,因此,气体与吸附剂“着附”的时间就很关键。例如:利用炭分子筛作为吸附剂,制取氮气的空分设备,要想提高吸附剂的利用率,保证周期内吸附剂能接近深度饱和,减少再生气量浪费,气体与吸附剂的着附时间一般为3.55-4.7s,按标准氮气产生率75L/h.kg计算(进口碳分子筛大约为95L/h.kg),一台产气量为30m3/H,纯度99.99%,压力0.6Mpa的制氮机,其吸附塔的单塔容积应不小于0.4m3<建立吸附床>填充炭分子筛数量的需要,考虑气体与吸附剂“着附”时间的长短,其吸附塔的截面积应不大于0.2m2,可见,其高度应为2m。流量再大的设备,在增大截面积的同时,吸附塔高度也要相应增高。许多厂家为了降低吸附塔高度,而增加截面积,即加大容积直径,这样,气体与吸附剂的“着附”时间就缩短了,产氮率随之降低;更有大型设备,由于公路限高,无法运输,不得不制成半产品到客户现场组装;有的设备到客户工厂后,无法进入车间,需拆门破墙而入。也有的厂家采用多个吸附塔并联的方式,这样管路复杂,配件数量成倍增加,提高了故障率。
实用新型内容:
本实用新型的结构是针对现有技术的不足,而设计的一种延时导流吸附塔,其设计简单合理,制造方便,能延长吸附剂与气体的“着附”时间,提高吸附剂的吸附深度和解决大容量气体干燥、气体分离设备的“超高”现象,消除运输限高的困惑。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案,其包括塔体、上、下封头、上置顶导流板、下置顶导流板,塔体的两端连接有上、下封头,上、下封头上分别开设有气体出口、空气入口,上、下封头分别通过法兰固定方式、焊接固定方式与塔体形成一个封闭的腔体,塔体的上、下端腔体内设有滤网,滤网分别固定在沉降铁、托降铁上;在塔体内,位于沉降铁、托降铁之间设有上置顶导流板、下置顶导流板。
所述的上置顶导流板焊接在沉降铁上,下置顶导流板焊接在托降铁上,上置顶导流板、下置顶导流板交错布置,引导气体按“N”字形流动。
所述的滤网分别安装在塔体上下端,且滤网的表面相对设置。
本实用新型有益效果为:塔体的两端连接有上、下封头,上、下封头上分别开设有气体出口、空气入口,上、下封头分别通过法兰固定方式、焊接固定方式与塔体形成一个封闭的腔体,塔体的上、下端腔体内设有滤网,滤网分别同定在沉降铁、托降铁上;在塔体内,位于沉降铁、托降铁之间设有上置顶导流板、下置顶导流板,为降低设备高度,增大了吸附塔的直径,利用导流板将吸附塔分离成几个“U”形槽,空气从空气入口,下滤网处进入,沿“U”形槽与填充的吸附剂形成的吸附床“着附”,分离、干燥后,从上滤网、气体出口流出,延长“着附”时间,提高了吸咐剂的饱和深度。
附图说明:
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型沉降铁的结构示意图;
图3是本实用新型托降铁的结构示意图。
具体实施方式:
见图1至图3所示:本实用新型包括塔体1、上、下封头2、上置顶导流板4、下置顶导流板5,塔体1的两端连接有上、下封头2,上、下封头2上分别开设有气体出口10,空气入口9,上、下封头2分别通过法兰7固定方式、焊接固定方式与塔体1形成一个封闭的腔体,塔体1的上、下端腔体内设有滤网6,滤网6分别固定在沉降铁8、托降铁3上;在塔体1内,位于沉降铁8、托降铁3之间设有上置顶导流板4、下置顶导流板5,塔体1内设有吸附剂11。
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