[实用新型]用于在监测或者控制工业过程中使用的过程现场装置

权利要求书

1.一种用于在监测或者控制工业过程中使用的过程现场装置，其特征在于，该过程现场装置包括：

第一回路终端和第二回路终端，所述第一回路终端和第二回路终端被构造成耦合至二线式工业过程控制回路；

现场装置电路，所述现场装置电路被构造成监测或者控制工业过程的过程变量，所述现场装置电路由来自二线式工业过程控制回路的功率供电；

电流调节器，所述电流调节器与所述二线式工业过程控制回路、所述第一回路终端和第二回路终端以及所述现场装置电路串联连接，所述电流调节器被构造成控制流过所述二线式工业过程控制回路的回路电流；和

电压调节器，所述电压调节器与所述电流调节器并联连接并且与所述二线式工业过程控制回路、所述第一回路终端和第二回路终端以及所述现场装置电路串联连接，所述电压调节器被构造成控制所述现场装置电路上的电压。

2.如权利要求1所述的过程现场装置，其中，该过程现场装置还包括与所述现场装置电路并联连接的被构造成储存电能的大容量电容器。

3.如权利要求1所述的过程现场装置，其中，该过程现场装置还包括分路电流调节器，所述分路电流调节器被构造成响应于测量到的过程变量控制流经过过程控制回路的回路电流。

4.如权利要求1所述的过程现场装置，其中，所述电流调节器被构造成将数字信号调制到流过所述二线式工业过程控制回路的回路电流上。

5.如权利要求4所述的过程现场装置，其中，所述现场装置电路包括与电流调节器耦合的被构造成调制所述数字信号的调制解调器。 

6.如权利要求1所述的过程现场装置，其中，所述二线式工业过程控制回路根据 通信协议运行。

7.如权利要求1所述的过程现场装置，其中，所述回路电流在4mA和20mA之间变化并表示测量到的过程变量。

8.如权利要求1所述的过程现场装置，其中，所述电压调节器包括与所述二线式工业过程控制回路和具有参考电压输入端的运算放大器串联耦合的场效应晶体管。

9.如权利要求8所述的过程现场装置，其中，所述电压调节器在场效应晶体管的输出端处接收与电压相关的负反馈。

10.如权利要求1所述的过程现场装置，其中，所述电流调节器包括与所述过程控制回路和构造成接收调制的数字信号的运算放大器串联耦合的场效应晶体管。

11.如权利要求10所述的过程现场装置，其中，所述电压调节器接收与流过场效应晶体管的电流相关的负反馈。