[实用新型]一种基于镀金处理的多晶硅还原炉

说明书

技术领域

本实用新型涉及还原炉，具体为一种基于镀金处理的多晶硅还原炉。 

背景技术

我国多晶硅领域的还原炉是电耗非常高的设备，目前的节能方法大多集中在使用新型进口设备上，这会造成多晶硅企业设备改造成本大大增加、长效节能难以稳定的隐患。 

实用新型内容

本实用新型所解决的技术问题在于提供一种基于镀金处理的多晶硅还原炉，以解决上述背景技术中的缺点。 

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现： 

一种基于镀金处理的多晶硅还原炉，包括炉体，所述炉体上设置内筒，内筒采用316L钢，其区别于传统还原炉的显著特征在于，在内筒内壁有镀金膜。本实用新型中，所述镀金膜的厚度为1-5μm，最佳厚度为5μm。

本实用新型运用镀金处理技术，可长期耐高温及高温腐蚀，具有耐酸碱的腐蚀、反射率稳定、粘结牢固等特点，大大提高了还原炉炉内反射高温红外线的能力，从而使硅迅速在炉内中心硅棒上沉积。 

有益效果

本实用新型运用了镀金处理技术，节能效果好，性能稳定，可以延长还原炉使用寿命和提高热效率，具有节能环保的功效。

附图说明

图1为本实用新型一种具体实施例的结构示意图。 

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。 

本实施例选用多晶硅还原炉对本实用新型进行阐述，参见图1，一种基于镀金处理的多晶硅还原炉，包括炉体1，所述炉体1上设置炉膛2，炉壁3采用316L钢，其区别于传统还原炉的显著特征在于，在炉膛内壁3的表面进行镀金处理。本实用新型中，所述镀金膜的厚度为1-5μm，最佳厚度为5μm。 

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定 。