[实用新型]位置及深度的检出装置有效
| 申请号： | 201120167720.9 | 申请日： | 2011-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN202171447U | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 黄澄仪;曾德生;许文鸿 | 申请（专利权）人： | 大立光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30;G01B11/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 位置 深度 检出 装置 | ||
1.一种位置及深度检出装置，用以检出具有一表面的一待测物的位置及深度，其特征在于，所述的装置包括：
一电控摆动元件，经由以电气驱动的一致动器控制该电控摆动元件的摆动角度；
一光源，藉由所述的电控摆动元件将所述的光源的光束反射至所述的表面以产生一光点；
一光学系统，用以接收投射至所述的表面的所述的光点的一投射信息；
一储存单元，用以储存投射至一预设平面的所述的光点的一预设信息；以及
一计算单元，依据所述的投射信息与所述的预设信息计算出所述的待测物的一深度信息。
2.如权利要求1所述的位置及深度检出装置，其特征在于，所述的电控摆动元件系以周期性摆动，所述的电控摆动元件的摆动角度可经由摆动频率或给定信号决定。
3.如权利要求1所述的位置及深度检出装置，其特征在于，所述的电控摆动元件的摆动角度的范围系使得反射的所述的光束可涵盖所需的空间平面。
4.如权利要求1所述的位置及深度检出装置，其特征在于，所述的光学系统的视角涵盖所需的空间平面。
5.如权利要求1所述的位置及深度检出装置，其特征在于，所述的光学系统包括至少一镜片。
6.如权利要求1所述的位置及深度检出装置，其特征在于，所述的光源在空间平面上所产生的光点形状为圆形。
7.如权利要求1所述的位置及深度检出装置，其特征在于，所述的光源在空间平面上所产生的光点形状为椭圆形。
8.如权利要求1所述的位置及深度检出装置，其特征在于，所述的光源在空间平面上所产生的一光点形状为圆形与椭圆形的反复渐变形状，所述的光点形状可藉由所述的电控摆动元件的摆动角度与所述的光源的开启与关闭所控制。
9.如权利要求7或8所述的位置及深度检出装置，其特征在于，所述的椭圆形光点系由脉冲宽度调变控制或脉冲频率调变控制所产生。
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