[实用新型]多反应室MOCVD反应器有效
申请号: | 201120169848.9 | 申请日: | 2011-05-25 |
公开(公告)号: | CN202131367U | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 颜秀文;王慧勇;魏唯;刘红江 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强 |
地址: | 410205 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应 mocvd 反应器 | ||
1.一种多反应室MOCVD反应器,包括反应室(4)和设在该反应室(4)一侧预备室(1),以及设在该反应室(4)另一侧的取片室(2),其特征是,所述反应室(4)为多个,每个反应室(4)内均放置一个作为单腔反应室独立生长的石墨托盘(5)。
2.根据权利要求1所述的多反应室MOCVD反应器,其特征是,所述多个反应室(4)和预备室(1)、取片室(2)呈环状布置,在环状的中心装有一个在预备室(1)、反应室(4)和取片室(2)之间传送石墨托盘(5)的机械传送装置。
3.根据权利要求2所述的多反应室MOCVD反应器,其特征是,所述机械传送装置为单臂多轴机械手。
4.根据权利要求1~3之一所述的多反应室MOCVD反应器,其特征是,所述反应室(4)为四个,其中两个反应室(4)位于MOCVD反应器的左部,另两个反应室(4)位于MOCVD反应器的右部,所述预备室(1)位于MOCVD反应器的上部,所述取片室(2)位于MOCVD反应器的下部。
5.根据权利要求1~3之一所述的多反应室MOCVD反应器,其特征是,所述反应室(4)、预备室(1)和取片室(2)之间通过插板阀隔离。
6.根据权利要求1~3之一所述的多反应室MOCVD反应器,其特征是,所述石墨托盘(5)的直径大于350mm,每个石墨托盘(5)内容纳2英寸衬底至少21片。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的